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Browse "MS-Theses_Ph.D.(박사논문) " by Author 이원종

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1
3-D Packaging 용 Through-Si Via/Trench의 충진에 관한 연구 = Filling of through-Si Via/Trench for 3-D packaginglink

김창규; Kim, Chang-Gyu; et al, 한국과학기술원, 2012

2
AlN 압전 박막의 우선 배향성 및 표면 탄성파 특성에 미치는 기판 효과에 관한 연구 = Substrate effects on the preferred orientation and surface acoustic wave characteristics of AlN piezoelectric filmslink

서주원; Soh, Ju-Won; et al, 한국과학기술원, 1997

3
Atomic-level surface characterization of organic and inorganic materials = 유기 및 무기물의 원자수준 표면분석link

Park, Young-Jae; 박영재; et al, 한국과학기술원, 2013

4
CH_3OH 유도결합 플라즈마를 이용한 Magnetic Tunnel Junction 물질의 건식식각특성 연구 = Dry etching characteristics of magnetic tunnel junction materials in CH_3OH inductively coupled plasma systemlink

이민석; Lee, Min-Suk; et al, 한국과학기술원, 2012

5
Cu 확산방지용 TCP MOCVD Ta(Si)N 박막 증착 및 특성에 관한 연구 = Deposition and characterization of TCP MOCVD Ta(Si)N thin films as diffusion barrier for Culink

박혜련; Park, Hye-Lyun; et al, 한국과학기술원, 2002

6
$Cu_{100-x}Cr_x$ 박막과 폴리이미드의 접착력 연구 = A study on the adhesion of $Cu_{100-x}Cr_x$ thin films deposited on polyimidelink

안은철; Ahn, Eun-Chul; 이원종; 유진; et al, 한국과학기술원, 1996

7
DLI-MOCVD법을 이용한 Pb계 강유전체 박막의 저온 증착 = Low temperature metalorganic chemical vapor deposition of Pb-based ferroelectric thin films using direct liquid injection systemslink

변경문; Byun, Kyung-Mun; et al, 한국과학기술원, 2004

8
ECR PE-MOCVD법에 의해 증착된 $PbTiO_3$, PLT 박막의 특성에 관한 연구 = A study on the characteristics of $PbTiO_3$, PLT thin films deposited by ECR PE-MOCVDlink

정성웅; Chung, Sung-Woong; et al, 한국과학기술원, 1996

9
ECR PECVD법을 이용한 ULSI DRAM Capacitor용 (Pb,La)(Zr,Ti)$O_3$ 박막의 제조 및 특성 평가 연구 = Fabrication and characterization of ECR PECVD (Pb,La)(Zr,Ti)$O_3$ thin films for the charge storage capacitors of ULSI DRAMlink

신중식; Shin, Joong-Shik; 이원종; 천성순; et al, 한국과학기술원, 1997

10
ECR plasma enhanced DC magnetron multi-target sputtering 방법을 이용한 $Pb(Zr,Ti)O_3$ 박막의 제조 및 특성 평가 연구 = Preparation and characterization of $Pb(Zr,Ti)O_3$ thin films by ECR plasma enhanced DC magnetron multi-target sputteringlink

김성태; Kim, Sung-Tae; et al, 한국과학기술원, 1997

11
ECR 플라즈마 기상화학증착법으로 제조한 초고집적회로 금속화공정의 확산방지용 TiN 박막의 특성 = The characteristics of TiN thin films prepared by ECR-PECVD as a diffusion barrier layer in ULSI metallization processlink

김종석; Kim, Jong-Seok; et al, 한국과학기술원, 1997

12
ECR 플라즈마를 이용한 $RuO_2$ 박막의 건식 식각특성에 관한 연구 = A study on the dry etching characteristics of $RuO_2$ thin film in electron cyclotron resonance plasmalink

이응직; Lee, Eung-Jik; et al, 한국과학기술원, 1998

13
ECR-PECVD PZT 박막의 FRAM 소자로의 응용에 관한 연구 = The study on the applicaions to FRAM with PZT thin film fabricated by ECR-PECVDlink

정수옥; Chung, Su-Ock; 이원종; 천성순; et al, 한국과학기술원, 2000

14
ECR-PECVD 법으로 제조한 PZT 박막의 물성 연구 = Characteriszation of PZT thin films prepared by ECR-PECVDlink

김재환; Kim, Jae-Whan; 위당문; 이원종; et al, 한국과학기술원, 1996

15
FRAM 소자 응용을 위한 ECR PECVD PZT 커패시터 특성에 미치는 전극의 영향 = Effect of electrodes on the characteristics of ECR PECVD PZT capacitors for the application to FRAM deviceslink

이희철; Lee, Hee-Chul; et al, 한국과학기술원, 2002

16
Growth of tailored carbon nanotube arrays via block copolymer lithography = 블록 공중합체 리소그래피를 이용한 맞춤형 탄소나노튜브 어레이의 성장에 관한 연구link

Lee, Duck-Hyun; 이덕현; et al, 한국과학기술원, 2010

17
$H_2/Ar/TiCl_4$ 및 $N_2/H_2/Ar/TiCl_4$ 유도결합 플라즈마 CVD 법에 의한 Ti 및 TiN 박막의 증착 특성 연구 = Investigation of the $H_2/Ar/TiCl_4$ and $N_2/H_2/Ar/TiCl_4$ inductively coupled plasma enhanced CVD system for the deposition of Ti and TiN filmslink

장성수; Jang, Seong-Soo; et al, 한국과학기술원, 2001

18
Ionized Metal Plasma Sputtering 및 Cu Electroplating을 이용한 3-D Packaging용 Through-Si Via Filling에 대한 연구 = Through-Si via filling for 3-D packaging by ionized metal plasma sputtering and Cu electroplatinglink

조병훈; Cho, Byeong-Hoon; et al, 한국과학기술원, 2008

19
LCD 백라이트용 Xe 플라즈마 평판 램프의 방전 특성에 관한 실험 및 수치적 연구 = Experimental and numerical study on discharge characteristics of a Xe plasma flat lamp for LCD backlightslink

김혁환; Kim, Hyuk-Hwan; et al, 한국과학기술원, 2006

20
PZT 박막 커패시터의 내수소열화 특성 향상에 관한 연구 = A study on the improvement of the resistance to the hydrogen-induced degradation of the PZT thin film capacitorslink

김동천; Kim, Dong-Chun; et al, 한국과학기술원, 2002

21
Reactive magnetron sputter ion plating법으로 증착된 TiN 박막의 증착 특성 및 침식 특성에 관한 연구 = Deposition characteristics and liquid impingement erosion properties of TiN film fabricated by reactive magnetron sputter ion platinglink

이민구; Lee, Min-Ku; et al, 한국과학기술원, 1998

22
Reactive multi-target sputtering 법으로 증착된 P(L)ZT 박막의 제조 특성및 기억소자로의 응용에 관한 연구 = Deposition characteristics of P(L)ZT ferroelectric film fabricated by reactive multi-target sputtering method and its applications for memory deviceslink

김현호; Kim, Hyun-Ho; et al, 한국과학기술원, 1999

23
RF magnetron sputtering법으로 증착된 PZT 박막의 증착특성 및 광소자로의 응용에 관한 연구 = A study on the deposition characteristics and the application to optical devices of the PZT films deposited by RF magnetron sputteringlink

강희수; Kang, Hee-Soo; et al, 한국과학기술원, 2001

24
강유전체 박막 커패시터의 특성분석을 위한 물리적 모델링에 관한 연구 = A study on the physical modeling for the characterization of the ferroelectric thin film capacitorslink

김용일; Kim, Yong-Il; et al, 한국과학기술원, 2000

25
고집적 DRO FRAM 소자용 PZT 박막 캐패시터의 신뢰성 연구 = Reliability study in PZT thin film capacitors for high-density DRO FRAM deviceslink

이강운; Lee, Kang-Woon; et al, 한국과학기술원, 2003

26
구리 CECVD를 이용한 3-D packaging용 through-Si via/trench filling에 대한 연구 = Through-Si via/trench filling for 3-D packaging by copper catalyst-enhanced chemical vapor depositionlink

이도선; Lee, Do-Seon; et al, 한국과학기술원, 2009

27
니켈기 초내열 합금에서 α-W 입자의 석출거동 및 고온강도에 미치는 영향 = The influence of α-W particles on the high temperature strength of Ni-base superalloylink

김현태; Kim, Hyon-Tae; et al, 한국과학기술원, 1998

28
다층 구조 투명 전도막의 열화 현상 개선을 위한 합금 연구 = Study on the Ag-alloy for the improvement of degradation resistance in the transparent conductive multilayer film systemlink

노희숙; Roh, Hee-Sook; et al, 한국과학기술원, 2008

29
다층구조 투명전도막의 전기적, 광학적 특성 및 내구성 연구 = The electrical, optical properties and durability of transparent conductive multilayer systemlink

조선희; Cho, Sun-Hee; et al, 한국과학기술원, 2011

30
대면적 평면 마그네트론 스퍼터링 시스템의 플라즈마 발생 및 박막증착에 관한 수치적 연구 = A computational study on plasma generation and film deposition in a large-area planar magnetron sputtering systemlink

권의희; Kwon, Ui-Hui; et al, 한국과학기술원, 2004

31
반응성 스퍼터링법에 의해 제조된 PZT 박막의 특성 평가와 압전형 미소기동기 제작에 관한 연구 = A study on the properties of PZT films prepared by reactive sputtering method and the fabrication of piezoelectric microactuatorlink

남효진; Nam, Hyo-Jin; et al, 한국과학기술원, 1998

32
상변화메모리 응용을 위한 $(InSb)_{2}Te_{3}$ 칼코게나이드 화합물의 상변화특성 연구 = Phase Change Characteristics of $(InSb)_{2}Te_{3}$ Chalcogenide Alloys for Application in Phase Change Memorylink

윤재진; Yun, Jae-Jin; et al, 한국과학기술원, 2011

33
염소계 플라즈마를 이용한 구리박막의 건식 식각기구에 관한 연구 = A study on the dry etching mechanism of copper film in chlorine-based plasmalink

이성권; Lee, Sung-Kwon; et al, 한국과학기술원, 1997

34
유도결합 플라즈마를 이용한 PZT 박막의 건식에칭 특성에 관한 연구 = A study on the etching characteristics of PZT films using Inductively coupled Plasmalink

정진기; Jung, Jin-Ki; et al, 한국과학기술원, 2001

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