| 22 | Channel Mobility Boosting through Ge profile and grain size engineering in a Ge-diffused Poly-Si channel for 3D V-NAND Flash Memory 이태인; 이윤희; 신의중; 김민주; 이정훈; 이재덕; 조병진, 제29회 한국반도체학술대회, 연세대학교, 한국반도체산업협회, 한국반도체연구조합, 2022-01-26 |
| 23 | CMOS 이미지 센서용 소형 픽셀에서의 recessed transfer gate 및 full depth deep trench isolation 구조 특성에 대한 시뮬레이션 연구 = Simulation-based study on characteristics of recessed transfer gate and full depth deep trench isolation in small pixel for CMOS image sensorslink 구태림; 조병진; et al, 한국과학기술원, 2023 |
| 24 | Critical Factors in Graphene FET Design and Other Electronics Applications of Graphene 조병진, The 2nd Korean Graphene Symposium, 한국그래핀연구회, 2015-03-27 |
| 25 | Cu-Bi-Te계 열전 재료 및 그 형성 방법 조병진; 정인; 차준일 |
| 26 | CVD를 이용한 그래핀의 전자기 차폐효과 홍슬기; 김기영; 김택용; 조병진, 제20회 한국반도체학술대회, 동부하이텍, 한국반도체산업협회, 한국반도체연구조합, 2013-02-06 |
| 27 | Demonstration of vertically stacked transfer-free MoS2 nanosheet transistor = 직성장 MoS2 적층형 나노시트 트랜지스터 구현 및 개발link Baeck, Soh Hee; Cho, Byung Jin; et al, 한국과학기술원, 2022 |
| 28 | Design of a Multiway Thermo-acoustic Loudspeaker with Carbon Nanotubes Sheet 신의중; 김충선; 박수연; 최정우; 조병진, The 4th Korean Graphene Symposium, 한국그래핀연구회, 2017-04-06 |
| 29 | Design study of a rapid thermal annealing system and temperature control = 고속열처리 장치의 설계연구와 온도제어link Cho, Byung-Jin; 조병진; et al, 한국과학기술원, 1987 |
| 30 | Development of application technology and hybrid genera-tor to improve practicality of thermoelectric generator = 열전 발전 소자의 실용성 향상을 위한 응용기술 및 융합 발전 소자 기술 개발link Kim, Yong Jun; Cho, Byung Jin; et al, 한국과학기술원, 2022 |
| 31 | Development of dual-mechanism memory device using charge trapping and ferroelectric switching for high-performance 3-D NAND flash = 고성능 3차원 낸드 플래시를 위한 전하 포획 및 강유전체 분극 스위칭 이중 메커니즘 메모리 개발link Shin, Eui Joong; Cho, Byung Jin; et al, 한국과학기술원, 2023 |
| 32 | Development of flash memory using high-k dielectrics by the improvement of charge trap layer and blocking oxide layer and its theory = 고유전막을 이용한 전하포획막과 차단산화막의 향상을 이용한 플래쉬 메모리 개발 및 그 이론link Park, Young-Min; 박영민; et al, 한국과학기술원, 2011 |
| 33 | Development of high performance graphene field effect transistor and integrated circuit engineering = 고성능 그래핀 소자 집적회로 기술개발link Hong, Seul Ki; 홍슬기; et al, 한국과학기술원, 2015 |
| 34 | Development of high-k organic-inorganic hybrid gate dielectrics for flexible electronics via chemical vapor phase synthesis = 화학적 기상 합성법을 이용한 유연 전자 소자용 고유전율 유-무기 하이브리드 게이트 절연막 개발link Kim, Min Ju; Cho, Byung-Jin; et al, 한국과학기술원, 2021 |
| 35 | Development of high-performance flexible single-crystalline silicon device and its application to flexible sensor = 고성능 유연 단결정 실리콘 소자 개발과 유연 센서 응용link Bong, Jae Hoon; Cho, Byung Jin; et al, 한국과학기술원, 2019 |
| 36 | Development of process technology for high performance Ge MOSFETs = 단위 공정 연구를 통한 고성능 게르마늄 소자 개발link Seo, Yu Jin; 서유진; et al, 한국과학기술원, 2017 |
| 37 | Diffusion Barrier Property of an Ultrathin Graphene Layer for Advanced Cu Interconnect Technology 봉재훈; 윤성준; Alexander Yoon; 황완식; 조병진, The 2nd Korean Graphene Symposium, 한국그래핀연구회, 2015-03-26 |
| 38 | DRAM capacitor 의 응용을 위한 ALD기법을 사용하여 증착한 HfLaO의 전기적 특성에 관한 연구 = Electrical characteristics of ALD HfLaO for DRAM capacitor applicationlink 설혜정; Seol, Hea-Jung; et al, 한국과학기술원, 2009 |
| 39 | DRAM 셀 커패시터 적용을 위한 낮은 온도의 열처리 및 E-field cycling을 통한 HfxZryO2의 k값 개선 = Improvement of k-value of HfxZryO2 through low temperature annealing and electric field cycling for dram cell capacitor applicationlink 문선국; 조병진; et al, 한국과학기술원, 2021 |
| 40 | Electric-field-cycling-induced phase transformation method to obtain morphotropic phase boundary in HfxZr1-xO2 김성호; 문선국; 박우영; 조병진, 제29회 한국반도체학술대회, 연세대학교, 한국반도체산업협회, 한국반도체연구조합, 2022-01-24 |
| 41 | Electromigration-resistance Improvement of Cu Nano-wire by Reduced Graphene Oxide Coating 윤성준; 조병진, The 1st Korean Graphene Symposium, 한국 그래핀 연구회, 2014-04-03 |
| 42 | Enhancement of Dielectric Constant of HfO2 by Lanthanum Incorporation and Crystallization 조병진; He, W; Chan, DSH, 16th Korean Conference on Semiconductors, 2009-02-20 |
| 43 | Enhancement of Operation Efficiency in Charge Trap Memory Using Antiferroelectric HfZrO2 신성원; 신의중; 이승환; 이태인; 김민주; 안현준; 황완식; et al, 제27회 한국반도체학술대회, 연세대학교, 한국반도체산업협회, 한국반도체연구조합, 2020-02-13 |
| 44 | Enhancing ferroelectricity of $HfO_2$ by inserting $ZrO_2$ interlayer on Si substrate = 실리콘 기판 위에 지르코늄 산화막 중간층 삽입을 통한 하프늄 산화막의 강유전성 개선link Lee, Sang Jae; Cho, Byung Jin; et al, 한국과학기술원, 2019 |
| 45 | Evaluation of effective work function and electrical properties via post-deposition annealing on $GeO_2$/Ge based gate stack = 저마늄 산화막/저마늄 기반의 게이트 구조에서 열처리에 따른 유효 일함수 및 전기적 특성 평가link Lee, Tae In; Cho, Byung Jin; et al, 한국과학기술원, 2017 |
| 46 | Evaluation of high voltage generator MOSFET with green laser annealing for M3D based Peri-on-Cell flash memory = 그린 레이저를 이용한 모노리식 3D 집적 기반 페리-온-셀 플래시 메모리 내 고전압 전하 펌핑 회로 소자 구현link Kim, Hee Tae; Cho, Byung Jin; et al, 한국과학기술원, 2023 |
| 47 | Experimental results of a prototype rapid thermal annealing system 조병진; Kim, KT; Kim, CK, Conf. on CAD, Semiconductor Material and Components, pp.71 - 71, 1986-05-14 |
| 48 | Fabrication and electrical properties of graphene field-ffect Device = 그래핀 전계 효과 소자의 제작 및 전기적 특성 분석link Ren, Zhe; 임철; et al, 한국과학기술원, 2009 |
| 49 | Fabrication of ultrathin(sub-6 nm) Sn doped amorphous gallium oxide field effect transistor with enhanced mobility = 향상된 이동도를 갖는 초박막(6 nm 이하) 주석 도핑된 비정질의 산화갈륨 전계 효과 트랜지스터 제작link Kim, Eui Joon; Cho, Byung Jin; 조병진; Hwang, Wansik; et al, 한국과학기술원, 2021 |
| 50 | Facile Graphene N-doping by Wet Chemical Treatment for Electronic Applications 봉재훈; 설원제; Alexander Yoon; 최성율; 조병진, The 1st Korean Graphene Symposium, 한국그래핀연구회, 2014-04-03 |
| 51 | First Experimental Demonstration of Junctionless SiGe PMOS FinFETs on n-type Bulk-Si 김태균; 윤영광; 문정민; 문동일; 이기성; 이동욱; 황철해; et al, 제20회 한국반도체학술대회, 동부하이텍, 한국반도체산업협회, 한국반도체연구조합, 2013-02-05 |
| 52 | Flash memory 소자에서 Anti-Ferroelectric 물질을 이용한 capacitance 부스팅 신성원; 신의중; 조병진, 대한전자공학회 2021년도 하계종합학술대회, 대한전자공학회, 2021-06-30 |
| 53 | Flexible RRAM based on Graphene Oxide 홍슬기; 조병진, 18th Korean Conference on Semiconductors, 2011-02 |
| 54 | Graphene based Cu diffusion barrier 김재환; 윤성준; 봉재훈; Yoon, Alexander; 조병진, 24th Korean Conference on Semiconductors, SK Hynix, 2017-02-15 |
| 55 | Graphene for Electronic Devices 조병진, 한국공업화학회, 2012-03 |
| 56 | Graphene for MOS devices 조병진, 2012 한국재료학회 제 22 회 신소재 심포지엄, 2012-05 |
| 57 | Graphene for RF and 3D IC Applications 조병진; 홍슬기; 송승민, 13th RF Integrated Circuit Technology Workshop, 대한전자공학회 RF집적회로기술연구회, 2013-09-26 |
| 58 | Graphene oxide based flexible ReRAM and its switching mechanism 홍슬기; 조병진, The Polymer Society of Korea - Society's Spring Meeting, 2011-04 |
| 59 | Graphene Thermo-acoustic Resonator for Boosting Sound Pressure Level in Low Frequency Region 신의중; 김충선; 김동환; 최정우; 조병진, The 3rd Korean Graphene Symposium, 한국그래핀연구회, 2016-04-14 |
| 60 | Graphene Thermoacoustic Loudspeaker with a Screen Printed Polymer Mesh Substrate 김충선; 홍슬기; 이정민; 강동수; 김양한; 최정우; 조병진, The 2nd Korean Graphene Symposium, 한국그래핀연구회, 2015-03-26 |
| 61 | Graphene towards electronic device and systems 조병진; 홍슬기; 문정훈; 신우철, Nano Korea 2013, Graphene symposium 2013, 미래창조과학부, 2013-07-11 |
| 62 | Graphene-based Flexible RF Mixer on Arbitrary Substrate 오중건; 김충선; 조병진, The 2nd Korean Graphene Symposium, 한국그래핀연구회, 2015-03-26 |
| 63 | Green Laser Annealing을 활용한 Monolithic 3D Integration 상부 PMOS 소자 구현과 성능 향상에 대한 연구 박영근; 노세민; 정재중; 신재철; 조병진, 제29회 한국반도체학술대회, 연세대학교, 한국반도체산업협회, 한국반도체연구조합, 2022-01-26 |
| 64 | HfLaO 게이트 절연막을 이용한 그래핀 전계효과 트랜지스터의 Dirac 전압 조율과 PVP 고분자 절연막을 이용한 그래핀 기반의 RF 트랜지스터 개발 = Tunable dirac voltage of graphene field effect transistor with HfLaO Gate dielectric and development of RF transistor based on graphene using PVP polymer dielectriclink 오중건; Oh, Joong-Gun; et al, 한국과학기술원, 2012 |
| 65 | HfLaO 절연막을 이용한 그래핀 전계효과 트랜지스터의 Dirac 전압 조율 오중건; 신윤상; 신우철; 조병진, 2011 Korean Carbon Society Spring Meeting, 한국탄소학회, 2011-05 |
| 66 | High Performance Top-Gated Graphene Field Effect Transistors with Initiated Chemical Vapor Deposition Gate Dielectrics 오중건; 박관용; 김충선; 임성갑; 조병진, The 3rd Korean Graphene Symposium, 한국그래핀연구회, 2016-04-15 |
| 67 | High- κ 유전체를 사용한 Charge-trapping type플래쉬 메모리 소자에서 데이터 Retention 특성과 Erase 속도 개선 = Improvement of data retention and erase speed in charge-trapping type flash memory devices using high-κ dielectriclink 박종경; Park, Jong-Kyung; et al, 한국과학기술원, 2010 |
| 68 | High-Performance Graphene Field-Effect-Transistors with iCVD Gate Dielectrics and Flexible Radio-Frequency Circuit Application 오중건; 봉재훈; 김충선; 박관용; 황완식; 임성갑; 조병진, The 4th Korean Graphene Symposium, 한국그래핀연구회, 2017-04-06 |
| 69 | High-performance ultra flexible silicon device and circuits towards bio-medical application = 바이오-의학 응용을 위한 고성능 고유연 실리콘 소자 및 회로link Kim, Seung Yoon; Cho, Byung Jin; et al, 한국과학기술원, 2019 |
| 70 | Highly Electrical Performance of Graphene Field Effect Transistors by Aluminum Nitride Substrates with High Surface Phonon Energy 오중건; 홍슬기; 김충기; 봉재훈; 신종우; 최성율; 조병진, The 1st Korean Graphene Symposium, 한국그래핀연구회, 2014-04-03 |
| 71 | iCVD 공정을 이용한 반도체 구조체의 도핑방법 조병진; 김재환; 윤형석; 김양수; 임성갑; 박관용; 박홍근 |
| 72 | IGZO Epitaxial Layer를 통한 HfxZr1-xO2 박막의 저온 결정화 유도 김성호; 고운산; 이가원; 이희덕; 조병진, 제 30회 한국반도체학술대회, SK하이닉스, 한국반도체산업협회, 한국반도체연구조합, 2023-02-14 |
| 73 | Improvement of Data Retention and Erase Speed using Cubic-Structured HfO2 for Charge-trap type flash memory device 조병진, 17th Korean Conference on Semiconductors, 17th Korean Conference on Semiconductors, 2010-02-25 |
| 74 | Improvement of metal-graphene contact resistance using direct growth of graphene 홍슬기; 송승민; 조병진, The 1st Korean Graphene Symposium, 한국그래핀연구회, 2014-04-03 |
| 75 | In-depth study of reliability for charge-trap-type flash memory devices = 전하포획형 플래시 메모리 소자의 신뢰성에 관한 심층 연구link Park, Jong-Kyung; 박종경; et al, 한국과학기술원, 2014 |
| 76 | In-Situ Hafnium Capping Process for 0.6 nm EOT on Ge Wafer 정원일; 신윤상; 이충호; 손동균; 조병진, 제 21회 한국반도체학술대회, 한양대학교, 한국반도체산업협회, 한국반도체연구조합, 2014-02-26 |
| 77 | Influence of Self-Heating Effect on Interface Trap Generation in Highly Flexible SingleCrystalline Si Nanomembrane Transistors 봉재훈; 김승윤; 정찬배; 장기수; 황완식; 조병진, 제25회 한국반도체학술대회, 서강대학교, 2018-02-06 |
| 78 | Interface engineering for optimal integration and characteristics of graphene field effect transistors = 그래핀 전계효과 트랜지스터의 최적의 집적 및 소자 특성을 위한 계면 제어link Shin, Woo Cheol; 신우철; et al, 한국과학기술원, 2014 |
| 79 | Interpretation of rapid thermal diffusion of phosphorus into silicon 조병진; Kim, CK, Semiconductor Workshop for Young Engineers, pp.0 - 0, 1991-03-05 |
| 80 | Investigation of ALD-Ni as P type Work function Metal Electrode on High-k dielectrics 안현준; 문정민; 김용준; 노일철; 김춘환; 조병진, 24th Korean Conference on Semiconductors, SK Hynix, 2017-02-14 |
| 81 | ITO 중간층을 포함하는 스커테루다이트 열전소재용 Ti 메탈라이징 구조과 그 형성 방법 및 ITO 중간층을 포함하여 Ti 메탈라이징된 스커테루다이트 열전소재와 그 제조 방법 박상현; 유충열; 윤하나; 조병진 |
