| 61 | 알루미늄 2014 합금의 환상압연 공정에서 최적 열처리 조건에 대한 연구 = Study of optimum heat treatment conditions for ring rolling process of AL 2014 alloylink 최재성; Choi, Jae-Sung; et al, 한국과학기술원, 1981 |
| 62 | 열처리 조건이 ECR plasma 화학 증착법으로 증착된 tantalum oxide 박막의 물성에 미치는 영향 = The effects of annealing conditions on the properties of tantalum oxide thin films deposited by electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor depositionlink 권오승; Kwon, Oh-Seung; et al, 한국과학기술원, 1993 |
| 63 | 온도에 따른 AISI304L stainless steel의 저주파 피로 거동에 관한 연구 = The effect of temperature on the low cycle fatigue behavior in AISI 304L stainless steellink 이제민; Lee, Je-Min; 남수우; 천성순; et al, 한국과학기술원, 1987 |
| 64 | 왕겨로 부터 Si3N4형성에 관한 속도론적 연구 = The kinetics of silicon nitride formation from korean rice hullslink 강상원; Kang, Sang-Won; et al, 한국과학기술원, 1978 |
| 65 | 용접 구조용 Al-Zn-Mg 합금 용접부의 저주파 피로 특성에 관한 연구 = A study on the low-cycle fatigue behaviors for Al-Zn-Mg alloy weldmentslink 성완; Sung, Wan; et al, 한국과학기술원, 1987 |
| 66 | 유기금속화학증착법에 의한 GaAs 와 $Al_xGa_{1-x}$As 의다층에피 성장 = Multilayer epitaxial growth of GaAs and $Al_xGa_{1-x}$ by metalorganic chemical vapor depositionlink 김무성; Kim, Moo-Sung; et al, 한국과학기술원, 1986 |
| 67 | 이온 질화처리가 SCM 21 강과 SCM 4강의 충격강도에 미치는 영향에 관한 연구 = Effect of ionitriding on impact strength in Cr-Mo steellink 이종권; Lee, Jong-Kwon; et al, 한국과학기술원, 1979 |
| 68 | 전자빔 손상이 n-MOSFET의 전기적 특성에 미치는 영향 = Effects of electron beam damage on the electrical characteristics of n-MOSFETslink 전영진; Jeon, Young-Jin; et al, 한국과학기술원, 1994 |
| 69 | 증착 조건이 TiC-TiN double layer 화학 증착에 미치는 영향에 관한 연구 = Effect of deposition conditionson TiC-TiN double layer coating by chemical vapor depositionlink 김무성; Kim, Moo-Sung; 남수우; 천성순; et al, 한국과학기술원, 1982 |
| 70 | 증착변수가 $Al_2O_3$ 화학증착에 미치는 영향에 대한 연구 = The effects of deposition variables on the chemical vapor deposition of $Al_2O_3$link 박철순; Park, Chul-Soon; 남수우; 천성순; et al, 한국과학기술원, 1982 |
| 71 | 증착변수가 $Si_3N_4$ 증착속도에 미치는 영향에 대한 연구 = The effects of deposition variables on deposition rate in chemical vapor deposition of $Si_3N_4$ onto silicon single crystallink 김지범; Kim, Ji-Bum; et al, 한국과학기술원, 1984 |
| 72 | 증착조건이 Si 증착속도 및 증착층의 표면형상에 미치는 영향에 대한 연구 = Effect of deposition conditionson the deposition rate and the crystal morphology of silicon depositlink 조준형; Cho, Joon-Hyoung; et al, 한국과학기술원, 1983 |
| 73 | 초경합금에 화학증착법으로 TiC, TiN, $TiC_xN_y$ 를 증착시킬때 그들의 성질에 관한 연구 = Chemical vapor deposition of TiC, TiN and $TiC_xN_y$ on cemented tungsten carbide and resultant propertieslink 조재신; Cho, Jae-Shin; et al, 한국과학기술원, 1981 |
| 74 | 초음파 진동이 7075 알루미늄 합금의 설출경화에 미치는 영향 = The effect of ultrasonic vibrations on the precipitation hardening of 7075 Al alloylink 노태환; No, Tae-Hwan; et al, 한국과학기술원, 1980 |
| 75 | 코발트계 박막합금의 비정질형성범위와 자기적성질에 관한 연구 = Glass forming range and magnetic properties of Co-base thin film alloyslink 김희중; Kim, Hi-Jung; et al, 한국과학기술원, 1988 |
| 76 | 텅스텐 박막의 저압화학 증착 기구 및 증착층의 특성에 관한 연구 = A study on the mechanisms of tungsten low pressure chemical vapor deposition and the characteristics of the deposited layerlink 박흥락; Park, Heung-Lak; 천성순; 남수우; et al, 한국과학기술원, 1989 |
| 77 | 티타늄 첨가 동합금을 Brazing filler 로 사용한 질화규소와 철강의 접합기구 = Bonding mechanism between $Si_3N_4$ and steel using titanium added copper alloy as a brazing fillerlink 김대훈; Kim, Dae-Hun; 천성순; 황선효; et al, 한국과학기술원, 1990 |
| 78 | 프로판을 사용한 TiC 화학증착에 대한 연구 = Chemical vapor deposition of titanium carbide on WC-6Co sintered carbide using propanelink 백동수; Baik, Dong-Soo; et al, 한국과학기술원, 1983 |
| 79 | 프로판을 사용한 TiC 화학증착에서 증착조건들이 미치는 영향 = The effects of deposition variables in the chemical vapor deposition of TiC using propanelink 김동갑; Kim, Dong-Gap; et al, 한국과학기술원, 1984 |
| 80 | 플라즈마 화학 증착법에 의하여 증착된 TiN,TiCxNy 박막의 증착 특성 및 물성에 관한 연구 = The study on the deposition characteristics and properties of the TiN and TiCxNy coatings by plasma assisted chemical vapor depositionlink 김시범; Kim, Si-Bum; et al, 한국과학기술원, 1991 |
| 81 | 플라즈마 화학증착된 Aluminum oxide 박막의 $CF_4$와 $CC1_4$ 플라즈마에서의 Reactive ion etching 특성 = The $CF_4/CC1_4$ reactive ion etching properties of aluminum oxide films deposited by PECVDlink 김형석; Kim, Hyung-Suk; et al, 한국과학기술원, 1993 |
| 82 | 플라즈마 화학증착된 TiN 박막의 분산분석에 의한 증착특성 및 기계적성질에 관한 연구 = A study on the deposition characteristics by analysis of variance and mechanical properties by plasma enhanced chemical vapor depositionlink 인치범; In, Chi-Bum; et al, 한국과학기술원, 1990 |
| 83 | 플라즈마 화학증착법, 이온 플레이팅법 및 반응성 스퍼터링법에 의해 증착된 TiN 박막의 특성 비교 연구 안치범; 정병진; 이원종; 천성순, 한국세라믹학회지, v.31, no.7, pp.731 - 738, 1994-04 |
| 84 | 플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 aluminum oxide 박막의 C-V 특성에 증착 변수가 미치는 영향 = The effect of deposition parameters on C-V characteristics of aluminum oxide thin films deposited by PECVDlink 김용천; Kim, Yong-Chun; et al, 한국과학기술원, 1990 |
| 85 | 플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 Aluminum oxide 박막의 에칭 특성에 관한 연구 = A study on etching properties of aluminum oxide films deposited by plasma enhanced chemical vapor depositionlink 정진기; Jung, Jin-Ki; et al, 한국과학기술원, 1991 |
| 86 | 플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 Aluminum oxide 절연박막의 특성에 관한 연구 = A study on the properties of the aluminum oxide dielectric films deposited by plasma enhanced chemical vapor depositionlink 강창진; Kang, Chang-Jin; et al, 한국과학기술원, 1990 |
| 87 | 플라즈마 화학증착법에 의해 제조된 기억소자용 고유전 탄탈륨 산화박막에 관한 연구 = PECVD $Ta_2O_5$ dielectric thin films for memory deviceslink 김일; Kim, Il; et al, 한국과학기술원, 1995 |
| 88 | 플라즈마 화학증착법에 의해 증착된 알루미늄 산화막의 증착 기구와 전기적 특성에 관한 연구 = A study on the deposition mechanism and the electrical properties of aluminum oxide films deposited by plasma enhanced chemical vapor depositionlink 김용천; Kim, Yong-Chun; et al, 한국과학기술원, 1993 |
| 89 | 플라즈마 화학증착한 aluminum oxide의 reactive ion etching 특성 이원종; 김형석; 천성순, 한국재료학회 추계학술연구발표회, pp.0 - 0, 한국재료학회, 1992-11 |
| 90 | 화학증착법에 의한 $SnO_2$의 증착기구 및 전기적성질에 관한 연구 = The deposition mechanism and electrical properties of $SnO_2$ by chemical vapor depositionlink 김광호; Kim, Kwang-Ho; et al, 한국과학기술원, 1986 |
| 91 | 화학증착법에 의해 제조된 Blanket 및 selective 텅스텐박막의 물성에 관한 연구 = The study on the properties of blanket and selective tungsten prepered by CVDlink 박영욱; Park, Young-Wook; et al, 한국과학기술원, 1991 |
| 92 | 화학증착에 의한 Silicon carbide 증착층의 증착기구및 기계적 성질에 대한 연구 = A study on deposition mechanism and mechanical property of silicon carbide layer by chemical vapor depositionlink 소명기; So, Myoung-Gi; et al, 한국과학기술원, 1988 |
| 93 | 화학증착한 비정질 SiC의 결합구조와 광금지대 및 비저항특성에 관한 연구 = A study on the characteristics of the bond structure, optical band gap and resistivity of chemical vapor deposited amorphous silicon carbidelink 박영욱; Park, Young-Wook; et al, 한국과학기술원, 1988 |
| 94 | 燒結炭化物에 化學蒸着한 TiC層의 成長에 關한 硏究 = Growth of chemical vapor deposited titanium-carbide layer on sintered cemented carbidelink 이채우; Lee, Chae-Woo; et al, 한국과학기술원, 1981 |
