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염석법을 이용한 비공유 기능기화된 그래핀 나노플레이트렛의 분리 공정 연구 김준희; 유승찬; 차재민; 류호진; 홍순형, COMPOSITES RESEARCH, v.32, no.3, pp.134 - 140, 2019-06 |
염화물 수용액에서 Zircaloy-4의 국부부식 저항성에 미치는 질소이온주입의 영향 이성준; 권혁상; 김완; 최병호, CORROSION SCIENCE AND TECHNOLOGY, v.3, no.25, pp.287 - 297, 1996 |
옥타데실아민과 폴리스티렌을 이용한 탄소나노튜브의 화학적 개질 함형택; 구종민; 김상욱; 최용석; 정인재, KOREAN CHEMICAL ENGINEERING RESEARCH(HWAHAK KONGHAK), v.40, no.5, pp.618 - 623, 2002-10 |
용출 현상 기반 나노촉매의 개발 및 응용 Kim, Jun Hyuk; Kim, Jun Kyu; Jung, WooChul, 세라미스트, v.23, no.2, pp.200 - 210, 2020-06 |
운모기판을 이용한 다결정 Si 전이막 성장 연구 엄지혜; 안병태; 전영권; 박진우, 한국재료학회지, v.14, no.5, pp.343 - 347, 2004-05 |
원료물질에 따른 실리콘 질화막의 원자층 증착 특성 비교 이원준; 이주현; 이연승; 나사균; 박종욱, 한국재료학회지, v.14, no.2, pp.141 - 145, 2004-02 |
원신분무에 의한 Uranlum filicide 분산핵연료의 제조와 특성 김창규; 강석중, 한국분말야금학회지, v.1, no.1, pp.72 - 78, 1994-01 |
원심분무에 의한 Uranium Silicide 분산핵연료의 제조와 특성 김창규; 김기환; 국일현; 강석중, 한국분말야금학회지, v.1, no.1, pp.72 - 78, 1994 |
유도결합 N2O 플라즈마를 이용한 실리콘 산화막의 저온성장과 다결정 실리콘 박막 트랜지스터에의 영향 원만호; 김상철; 안진형; 김보현; 안병태, 한국재료학회지, v.12, no.9, pp.724 - 728, 2002-09 |
유무기 하이브리드 코팅제 배병수, 고분자과학과 기술, v.12, no.5, pp.716 - 723, 2001-10 |
응고이론으로 고찰한 제주도 중문의 용암응고조직 이진형, 한국주조공학회지, v.23, no.3, pp.105 - 106, 2003-06 |
이방성 전도 필름의 접촉저항, 접착력 및 신뢰성에 미치는 접속 변수의 영향 임명진; 백경욱, 한국재료학회지, v.8, no.5, pp.399 - 407, 1998-05 |
이온 질화에 의해 크롬 도금 층 위에 형성된 크롬 질화물의 성장에 관한 전산 모사 엄지용; 이병주; 남기석; 권식철; 권혁상, 한국표면공학회지, v.34, no.3, pp.231 - 239, 2001 |
이온빔보조증착법으로 합성한 hexagonal BN막의 hexagonal ring의 배열과 결정성 박영준; 한준희; 이정용; 백영준, 한국진공학회지, v.8, no.1, pp.43 - 50, 1999-12 |
이차전지용 탄소재의 흑연화 분위기에 따른 표면미세구조와 전지성능에 미치는 영향 허윤; 이정용; 윤상영, 한국재료학회지, v.10, no.11, pp.743 - 748, 2000 |
인 도핑 다결정 실리콘 산화막의 전기적 특성에 관한 연구 윤형섭; 강상원; 박신종, 전자공학회지, v.23, no.6, pp.814 - 819, 1986-11 |
인쇄회로기판 용 Epoxy/BaTiO3 내장형 커패시터 필름에 관한 연구 조성동; 이주연; 백경욱, 마이크로 전자 및 패키징 학회지, v.8, no.4, pp.59 - 65, 2001-12 |
일방향응고된 2상 TiAl 합금의 층상경계 방향제어 김민철; 오명훈; 이재현; 위당문, 대한금속·재료학회지, v.35, no.11, pp.1569 - 1575, 1997-11 |
일방향응고에 의한 TiAl합금의 상평형 정인수; 김민철; 이재현; 오명훈; 위당문, 대한금속·재료학회지, v.37, no.4, pp.448 - 453, 1999-01 |
일본 방위산업기술연구소 연구개발 동향 조사 유민규; 최근하; 김종수; 권혁상, 한국방위산업학회지, v.22, no.3, pp.150 - 172, 2015-09 |
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