| 1 | (A) study on the novel heating resistors based on the composite metal-oxides for inkjet printhead = 잉크젯 프린트 헤드를 위한 새로운 금속 산화물 기반의 발열체 특성에 관한 연구link Kwon, Se-hun; 권세훈; Kang, Sang-won; 강상원, 한국과학기술원, 2008 |
| 2 | (The) microstructure and electrical property of $HfO_2/Al_2O_3$ films deposited by atomic layer deposition = 원자층 증착법으로 형성된 $HfO_2/Al_2O_3$ 박막의 결정 구조 변화 및 전기적 특성에 관한 연구link Park, Pan-Kwi; 박판귀; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2007 |
| 3 | Resistive switching mechanism of $TiO_2$ thin films grown by plasma-enhanced atomic layer deposition = PEALD 방법으로 성장된 $TiO_2$ 박막의 저항변화 메커니즘에 관한 연구link Jeong, Hu-Young; 정후영; Lee, Jeong-Yong; 이정용, 한국과학기술원, 2010 |
| 4 | ALD와 PEALD를 이용한 $Al_2O_3$ 박막 증착에 관한 연구 = A study on the $Al_2O_3$ thin film deposition by ALD and PEALDlink 전우석; Jeon, Woo-Seok; 강상원; Kang, Sang-Won, 한국과학기술원, 2003 |
| 5 | (A) study on $SrTiO_3$ thin films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition for DRAM capacitor dielectric = PEALD법으로 증착된 DRAM capacitor 유전체용 $SrTiO_3$ 박막의 특성에 관한 연구link Ahn, Ji-Hoon; 안지훈; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2009 |
| 6 | 원자층증착법에 의한 $HfO_2$ 게이트절연막의 성장과 플라즈마처리에 의한 질화에 관한 연구 = Study on $HfO_2$ gate dielectric grown by atomic layer deposition and its nitridation by plasma treatmentlink 박건식; Park, Kun-Sik; 노광수; No, Kwang-Soo, 한국과학기술원, 2011 |
| 7 | (A) study on plasma-enhanced atomic layer deposition of Ta-Si-O thin films = 탄탈륨 실리콘 산화막의 플라즈마 원자층 증착법에 관한 연구link Song, Hyun-Jung; 송현정; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2003 |
| 8 | Transmission electron microscopy study of $ZnO/Al_{2}O_{3}$ based thin film transistor grown by atomic layer deposition method = ALD 방법으로 증착된 $ZnO/Al_{2}O_{3}$ 기반 박막형 트랜지스터의 투과전자현미경 연구link Jang, Yong-Woon; 장용운; Lee, Jeong-Yong; 이 정 용, 한국과학기술원, 2011 |
