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Browse "Dept. of Materials Science and Engineering(신소재공학과)" by Subject 코발트 실리사이드

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1
MOCVD $CoSi_2$ 의 열안정성 향상 및 니켈 실리사이드의 저온 응력증가 특성에 관한 연구 = Improvement in thermal stability of MOCVD $CoSi_2$ and characterization of low- temperature stress hump of nickel silicidelink

홍정의; Hong, Jeong-Eui; et al, 한국과학기술원, 2005

2
금속유기화학기상증착법과 반응성 스퍼터링법으로 증착된 $CoN_x$ 박막을 이용하여 (100) Si 기판에서의 에피택셜 $CoSi_2$의 성장에 관한 연구 = Growth of epitaxial $CoSi_2$ layer on (100) Si substrate using $CoN_x$ film deposited by metallorganic chemical vapor deposition and reactive sputteringlink

김선일; Kim, Sun-Il; et al, 한국과학기술원, 2006

3
금속유기화학기상증착법을 이용한 heavily doped Si 기판에서의 $CoSi_2$ layer의 성장거동 및 접합특성에 관한 연구 = Growth behavior of $CoSi_2$ layer on heavily doped Si and junction characteristics using metalorganic chemical vapor depositionlink

이희승; Lee, Heui-Seung; et al, 한국과학기술원, 2002

4
반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 $CoSi_2$ layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구 = Growth behavior and thermal stability of $CoSi_2$ layer on poly-Si substrate using reactive chemical vapor depositionlink

김선일; Kim, Sun-Il; et al, 한국과학기술원, 2001

5
반응성 스퍼터링법으로 증착된 코발트 나이트라이드(Co-N) 박막을 이용한 (100) Si 기판에서의 $CoSi_{2}$ 에피층 형성에 관한 연구 = Formation of epitaxial $CoSi_{2}$ layer on (100) Si substrate using cobalt nitride(Co-N) film deposited by reactive sputteringlink

이승렬; Lee, Seung-Ryul; et al, 한국과학기술원, 2004

6
실리콘 팁의 코발트 실리사이드와 질화물 코팅에 의한 전계 방출 및 파괴 거동에 관한 연구 = A study on the field emission and failure behaviors of silicon tip arrays with Co-Silicide and Nitride coating layerslink

한병욱; Han, Byung-Wook; et al, 한국과학기술원, 2001

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