반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 $CoSi_2$ layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구Growth behavior and thermal stability of $CoSi_2$ layer on poly-Si substrate using reactive chemical vapor deposition
- Advisors
- 안병태researcher; Ahn, Byung-Taeresearcher
- Description
- 한국과학기술원 : 재료공학과,
- Publisher
- 한국과학기술원
- Issue Date
- 2001
- Identifier
- 169432/325007 / 020003083
- Language
- kor
- Description
학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 재료공학과, 2001.8, [ 75 p. ]
- Keywords
화학기상증착법; 열적안정성; 코발트 실리사이드; TiN; chemical vapor deposition; thermal stability
- Appears in Collection
- MS-Theses_Master(석사논문)
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