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Browse "Dept. of Materials Science and Engineering(신소재공학과)" by Author 김진백

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1
A study on photoresist using concurrent radical and cationic polymerization = 라디칼 중합과 양이온 중합을 동시에 이용하는 포토레지스트에 관한 연구link

Park, Jong-Jin; 박종진; et al, 한국과학기술원, 1995

2
(A) low dielectric constant spin-on-glass for interlevel dielectric = 층간 절연체를 위한 저 유전 상수 의 스핀-온-글라스link

Lee, Seung-Jin; 이승진; et al, 한국과학기술원, 1997

3
(A) study on novel top surface imaging by selective adsorption of silicon-compounds = 실리콘 화합물의 선택적 흡착에 의한 새로운 표면 이미징에 관한 연구link

Kwoen, Young-Gil; 권영길; et al, 한국과학기술원, 1997

4
(A) study on the effect of onium salt on the electro-optic properties of PDLC = 오늄염의 고분자분산액정의 전기광학적특성들에 미치는 효과에 관한 연구link

Lee, Chong-Soo; 이종수; et al, 한국과학기술원, 1997

5
Alicyclic polymers for chemically amplified resists = 화학증폭형 레지스트용 지방족 고리형 고분자link

Choi, Jae-Hak; 최재학; et al, 한국과학기술원, 1998

6
Chemically amplifed resists based on the poly(1,4-dioxaspiro[4.4]nonane-2-methyl methacrylate) = 폴리(1,4-디옥사스피로[4.4]노난-2-메틸 메타크릴레이트)를 기본으로 하는 화학증폭형 레지스트link

Park, Jong-Jin; 박종진; et al, 한국과학기술원, 1999

7
Deep UV and electron beam resists based on maleimide polymers = 말레이미드 고분자를 기본으로 한 원자외선 및 전자선 레지스트 연구link

Kim, Sang-Tae; 김상태; et al, 한국과학기술원, 1997

8
Near-UV Sensitive Photo-Patternable Adhesives

김일; 조영욱; 김진백; 백경욱, 2011 춘계 한국고분자학회, 대한 고분자 학회, 2011-04-08

9
Positive and negative photoresists for ArF lithography using bile acids = 담즙산을 이용한 ArF 리소그라피용 포지형 및 네가형 포토레지스트link

Ko, Jong-Sung; 고종성; et al, 한국과학기술원, 2003

10
Synthesis and characterization of Di- and triblock copolymers of poly(ethylene oxide) and poly(DL-valine-co-DL-leucine) = 폴리에틸렌옥사이드와 폴리루신발린 블록공중합체의 합성과 특성에 관한 연구link

Jung, Hyun-Jin; 정현진; Kim, Jin-Baek; Cho, I-Whan; et al, 한국과학기술원, 2003

11
Synthesis and characterization of electroactive styrenic polymers with pyrrole pendant groups = 피롤을 함유하는 스티렌계 수지의 합성 및 전기적 특성link

Lim, Sung-Tek; 임성택; et al, 한국과학기술원, 1996

12
Synthesis and lithographic characterization of poly(N-p-(tert-butoxycarvbonyloxy)phenyl dimethacrylamide) = 폴리(N-파라-(터셔리-부톡시카르보닐옥시)페닐 디메타크릴아미드)의 합성 과및 리소그라피 특성link

Kwon, Kyong-Il; 권경일; et al, 한국과학기술원, 1997

13
Synthesis and lithographic charaterization of poly(hydroxystyrene-co-t-butylacrylate-co-3- (butoxycarbonyl)-N-vinyl caprolactam) = Poly(hydroxystyrene-co-t-butylacrylate-co-3-(butoxycarbonyl)-N-vinyl caprolactam)의 합성과 리소그라피 특성link

Cheong, Jong-Ho; 정종호; et al, 한국과학기술원, 1996

14
Synthesis of 3-(t-Butoxycarbonyl)-N-vinyllactams and application of their polymers as chemical amplification resists = 3-t-부톡시카보닐-N-비닐락탐류의 합성 및 화학증폭성 레지스트로서의 응용link

Jung, Min-Ho; 정민호; et al, 한국과학기술원, 1997

15
Synthesis of acrylate polymers with acid labile organosilicon protecting groups and their application as dry-developable photoresists for ArF lithography = 산촉매에 의해 분해되는 유기 실리콘기를 측쇄에 함유하는 아크릴레이트계 공중합체의 합성과 아르곤 플루오라이드 리소그라피용 건식현상형 포토레지스트로서의 응용link

Kim, Hyun-Woo; 김현우; et al, 한국과학기술원, 1999

16
Synthesis of copolymers containing hydroxycyclohexyl methacrylate and their application as DUV resist = 히드록시시클로헥실 메타크릴레이트가 포함된 공중합체의 합성 및 원자외선 레지스트로서의 응용link

Kim, Jae-Young; 김재영; et al, 한국과학기술원, 1998

17
Vinyl p-t-butoxycarbonylonyloxybenzal-venyl alcohol-vinyl acetate 공중합체의 합성과 리소그라피 특성 = Synthesis and lithographic characterization of vinyl p-t-butoxycarbonyloxxybenzal vinyl alcohol-vinyl acetate copolymerlink

김현우; Kim, Hyun-Woo; et al, 한국과학기술원, 1995

18
Vinyl tetrahydropyranyl ether-vinyl p-tetrahydropyranyloxy benzal-vinyl p-hydroxybenzal-vinyl acetate 의 합성과 리소그라피 특성 = Synthesis and lithographic charaterization of vinyl tetrahydropyranyl ether-vinyl p-tetrahydropyranyloxy benzal-vinyl p-hydroxybenzal-vinyl acetatelink

김진석; Kim, Jin-Seuk; et al, 한국과학기술원, 1996

19
나프토퀴논디아지드를 도입한 중합체의 합성 및 감광특성 = Synthesis and characterization of phtosensitive polymers contatining Naphethoquinonediazidelink

정민호; Jung, Min-Ho; et al, 한국과학기술원, 1994

20
블록공중합체 분자조립제어를 통한 나노패턴 제조공정

김진백; 김상욱; 정성준, 정밀화학, no.97, pp.20 - 28, 2008-07

21
원자외선을 이용한 PPV precursor의 패턴 형성 = Pattern formation of PPV precursor by deep UVlink

윤제문; Youn, Jei-Moon; et al, 한국과학기술원, 1995

22
유화중합에 의한 수산화 알루미늄 표면에서의 메틸 메타크릴레이트의 Encapsulation = Encapsulation of aluminum hydroxide by emulsion polymerization of Methyl Methacrylatelink

이명구; Lee, Myung-Ku; et al, 한국과학기술원, 1994

23
유화중합에 의한 실리카 입자의 이소프렌 Capsule화 = Encapsulation of silica particles by emulsion polymerization of isoprenelink

임성수; Lim, Sung-Soo; et al, 한국과학기술원, 1994

24
자외선중합에 의한 아크릴 감압성 점착제에서의 실리카 첨가 효과 = Effect of silica on acrylic pressure sensitive adhesive by UV polymerizationlink

이장주; Lee, Jang-Ju; et al, 한국과학기술원, 1995

25
졸-겔법에 의한 Silicon abrasion resistant coating 제조에 있어서의 염기 촉매 효과 = Base CATALYST effect in the silicone abrasion resistant coating by sol-gel processlink

신범수; Shin, Beom-Soo; et al, 한국과학기술원, 1994

26
폴리(파라-페닐렌비닐렌) 유도체의 합성 및 광미세가공 = Synthesis and photolithography of poly(p-phenylenevinylene) derivativeslink

양돈식; Yang, Don-Sik; et al, 한국과학기술원, 1997

27
폴리카보네이트에 대한 내마모성 코팅에 관한 연구 = A study on the abrasion resistant coating for polycarbonate substratelink

조갑성; Cho, Kab-Sung; et al, 한국과학기술원, 1997

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