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Browse "Dept. of Materials Science and Engineering(신소재공학과)" by Author 천성순

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75
코발트계 박막합금의 비정질형성범위와 자기적성질에 관한 연구 = Glass forming range and magnetic properties of Co-base thin film alloyslink

김희중; Kim, Hi-Jung; et al, 한국과학기술원, 1988

76
텅스텐 박막의 저압화학 증착 기구 및 증착층의 특성에 관한 연구 = A study on the mechanisms of tungsten low pressure chemical vapor deposition and the characteristics of the deposited layerlink

박흥락; Park, Heung-Lak; 천성순; 남수우; et al, 한국과학기술원, 1989

77
티타늄 첨가 동합금을 Brazing filler 로 사용한 질화규소와 철강의 접합기구 = Bonding mechanism between $Si_3N_4$ and steel using titanium added copper alloy as a brazing fillerlink

김대훈; Kim, Dae-Hun; 천성순; 황선효; et al, 한국과학기술원, 1990

78
프로판을 사용한 TiC 화학증착에 대한 연구 = Chemical vapor deposition of titanium carbide on WC-6Co sintered carbide using propanelink

백동수; Baik, Dong-Soo; et al, 한국과학기술원, 1983

79
프로판을 사용한 TiC 화학증착에서 증착조건들이 미치는 영향 = The effects of deposition variables in the chemical vapor deposition of TiC using propanelink

김동갑; Kim, Dong-Gap; et al, 한국과학기술원, 1984

80
플라즈마 화학 증착법에 의하여 증착된 TiN,TiCxNy 박막의 증착 특성 및 물성에 관한 연구 = The study on the deposition characteristics and properties of the TiN and TiCxNy coatings by plasma assisted chemical vapor depositionlink

김시범; Kim, Si-Bum; et al, 한국과학기술원, 1991

81
플라즈마 화학증착된 Aluminum oxide 박막의 $CF_4$와 $CC1_4$ 플라즈마에서의 Reactive ion etching 특성 = The $CF_4/CC1_4$ reactive ion etching properties of aluminum oxide films deposited by PECVDlink

김형석; Kim, Hyung-Suk; et al, 한국과학기술원, 1993

82
플라즈마 화학증착된 TiN 박막의 분산분석에 의한 증착특성 및 기계적성질에 관한 연구 = A study on the deposition characteristics by analysis of variance and mechanical properties by plasma enhanced chemical vapor depositionlink

인치범; In, Chi-Bum; et al, 한국과학기술원, 1990

83
플라즈마 화학증착법, 이온 플레이팅법 및 반응성 스퍼터링법에 의해 증착된 TiN 박막의 특성 비교 연구

안치범; 정병진; 이원종; 천성순, 한국세라믹학회지, v.31, no.7, pp.731 - 738, 1994-04

84
플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 aluminum oxide 박막의 C-V 특성에 증착 변수가 미치는 영향 = The effect of deposition parameters on C-V characteristics of aluminum oxide thin films deposited by PECVDlink

김용천; Kim, Yong-Chun; et al, 한국과학기술원, 1990

85
플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 Aluminum oxide 박막의 에칭 특성에 관한 연구 = A study on etching properties of aluminum oxide films deposited by plasma enhanced chemical vapor depositionlink

정진기; Jung, Jin-Ki; et al, 한국과학기술원, 1991

86
플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 Aluminum oxide 절연박막의 특성에 관한 연구 = A study on the properties of the aluminum oxide dielectric films deposited by plasma enhanced chemical vapor depositionlink

강창진; Kang, Chang-Jin; et al, 한국과학기술원, 1990

87
플라즈마 화학증착법에 의해 제조된 기억소자용 고유전 탄탈륨 산화박막에 관한 연구 = PECVD $Ta_2O_5$ dielectric thin films for memory deviceslink

김일; Kim, Il; et al, 한국과학기술원, 1995

88
플라즈마 화학증착법에 의해 증착된 알루미늄 산화막의 증착 기구와 전기적 특성에 관한 연구 = A study on the deposition mechanism and the electrical properties of aluminum oxide films deposited by plasma enhanced chemical vapor depositionlink

김용천; Kim, Yong-Chun; et al, 한국과학기술원, 1993

89
플라즈마 화학증착한 aluminum oxide의 reactive ion etching 특성

이원종; 김형석; 천성순, 한국재료학회 추계학술연구발표회, pp.0 - 0, 한국재료학회, 1992-11

90
화학증착법에 의한 $SnO_2$의 증착기구 및 전기적성질에 관한 연구 = The deposition mechanism and electrical properties of $SnO_2$ by chemical vapor depositionlink

김광호; Kim, Kwang-Ho; et al, 한국과학기술원, 1986

91
화학증착법에 의해 제조된 Blanket 및 selective 텅스텐박막의 물성에 관한 연구 = The study on the properties of blanket and selective tungsten prepered by CVDlink

박영욱; Park, Young-Wook; et al, 한국과학기술원, 1991

92
화학증착에 의한 Silicon carbide 증착층의 증착기구및 기계적 성질에 대한 연구 = A study on deposition mechanism and mechanical property of silicon carbide layer by chemical vapor depositionlink

소명기; So, Myoung-Gi; et al, 한국과학기술원, 1988

93
화학증착한 비정질 SiC의 결합구조와 광금지대 및 비저항특성에 관한 연구 = A study on the characteristics of the bond structure, optical band gap and resistivity of chemical vapor deposited amorphous silicon carbidelink

박영욱; Park, Young-Wook; et al, 한국과학기술원, 1988

94
燒結炭化物에 化學蒸着한 TiC層의 成長에 關한 硏究 = Growth of chemical vapor deposited titanium-carbide layer on sintered cemented carbidelink

이채우; Lee, Chae-Woo; et al, 한국과학기술원, 1981

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