1 | 메조포러스 실리카와 Organosilicate 박막의 제조 및 특성 = Fabrication and characteristics of mesoporous silica and organosilicate thin filmslink 정지인; Jung, Ji-In; 배병수; Bae, Byeong-Soo, 한국과학기술원, 2005 |
2 | 졸-겔법을 통해 제조된 $LiCoO_2$ 박막정극의 전기화학적 특성 = The electrochemical properties of $LiCoO_2$ thin film cathode prepared by sol-gel processlink 김문규; Kim, Mun-Kyu; 김호기; Kim, Ho-Gi, 한국과학기술원, 2002 |
3 | ECR-PECVD PZT 박막의 FRAM 소자로의 응용에 관한 연구 = The study on the applicaions to FRAM with PZT thin film fabricated by ECR-PECVDlink 정수옥; Chung, Su-Ock; 이원종; 천성순; Lee, Won-Jong; Chun, Soung-Soon, 한국과학기술원, 2000 |
4 | FRAM 소자 응용을 위한 ECR PECVD PZT 커패시터 특성에 미치는 전극의 영향 = Effect of electrodes on the characteristics of ECR PECVD PZT capacitors for the application to FRAM deviceslink 이희철; Lee, Hee-Chul; 이원종; Lee, Won-Jong, 한국과학기술원, 2002 |
5 | Characteristics of fluorinated amorphous carbon thin film deposited using ICP-CVD as a low dielectric interlayer dielectrics = ICP-CVD를 이용하여 증착한 저유전율 층간절연 박막용 불소함유 비정질 박막의 특성link Han, Sang-Soo; 한상수; Bae, Byeong-Soo; 배병수, 한국과학기술원, 2001 |
6 | 광리소그래피 위상변위마스크용 Cr-Al-O-N 박막의 개발 = Development of chromium aluminum oxynitride films as a phase shifting mask material for optical lithographylink 김은아; Kim, Eun-Ah; 노광수; No, Kwang-Soo, 한국과학기술원, 2001 |
7 | (A) study on the atomic layer deposition of Ti-Al-N thin films using plasmas = 플라즈마를 이용한 Ti-Al-N 박막의 원자층 증착법에 관한 연구link Lee, Yong-Ju; 이용주; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2003 |
8 | ALD와 PEALD를 이용한 $Al_2O_3$ 박막 증착에 관한 연구 = A study on the $Al_2O_3$ thin film deposition by ALD and PEALDlink 전우석; Jeon, Woo-Seok; 강상원; Kang, Sang-Won, 한국과학기술원, 2003 |
9 | DLI-MOCVD법을 이용한 Pb계 강유전체 박막의 저온 증착 = Low temperature metalorganic chemical vapor deposition of Pb-based ferroelectric thin films using direct liquid injection systemslink 변경문; Byun, Kyung-Mun; 이원종; Lee, Won-Jong, 한국과학기술원, 2004 |
10 | (A) study on the growth kinetic modeling for atomic layer deposition of multi-component thin films = 다성분계 박막의 ALD를 위한 박막성장의 동역학적 modeling에 관한 연구link Kim, Jin-Hyock; 김진혁; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2005 |