| 1 | $H_2/Ar/TiCl_4$ 및 $N_2/H_2/Ar/TiCl_4$ 유도결합 플라즈마 CVD 법에 의한 Ti 및 TiN 박막의 증착 특성 연구 = Investigation of the $H_2/Ar/TiCl_4$ and $N_2/H_2/Ar/TiCl_4$ inductively coupled plasma enhanced CVD system for the deposition of Ti and TiN filmslink 장성수; Jang, Seong-Soo; 이원종; Lee, Won-Jong, 한국과학기술원, 2001 |
| 2 | ECR 플라즈마를 이용한 $RuO_2$ 박막의 건식 식각특성에 관한 연구 = A study on the dry etching characteristics of $RuO_2$ thin film in electron cyclotron resonance plasmalink 이응직; Lee, Eung-Jik; 이원종; Lee, Won-Jong, 한국과학기술원, 1998 |
| 3 | RF magnetron sputtering 증착공정에서 플라즈마 특성과 비정질 $CN_x$ 박막성질의 상관관계에 관한 연구 = A study on the correlation between the plasma and amorphous $CN_x$ film characteristics using RF magnetron sputteringlink 노기민; Roh, Ki-Min; 최시경; Choi, Si-Kyung, 한국과학기술원, 2011 |
| 4 | 대면적 평면 마그네트론 스퍼터링 시스템의 플라즈마 발생 및 박막증착에 관한 수치적 연구 = A computational study on plasma generation and film deposition in a large-area planar magnetron sputtering systemlink 권의희; Kwon, Ui-Hui; 이원종; Lee, Won-Jong, 한국과학기술원, 2004 |
| 5 | 저온 열처리 공정에 의한 LCD-TFT용 poly-Si 박막의 제조에 관한 연구 = A study on the fabrication of poly-Si films for LCD-TFT by low-temperature annealing processlink 김해열; Kim, Hae-Yeol; 이재영; Lee, Jai-Young, 한국과학기술원, 2000 |
| 6 | (A) study on the atomic layer deposition of Ti-Al-N thin films using plasmas = 플라즈마를 이용한 Ti-Al-N 박막의 원자층 증착법에 관한 연구link Lee, Yong-Ju; 이용주; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2003 |
