| 1 | Stress charaterization of thin film materials and fabrication of FPW device = 박막소재의 응력특성 분석과 FPW 소자 제조link Lee, Chang-Seung; 이창승; Wee, Dang-Moon; No, Kwang-Soo; 위당문; 노광수, 한국과학기술원, 2000 |
| 2 | 자기기록 미디아용 박막의 미세조직 발달에 미치는 응력의 효과 = Effect of stress on the microstructural evolution of thin films for magnetic recording medialink 박권식; Park, Kwon-Shik; 박중근; Park, Joong-Keun, 한국과학기술원, 1999 |
| 3 | 타이타늄실리사이드 박막의 응집현상과 응력의 영향에 관한 연구 = Study on the agglomeration of TiSi2 thin film and stress effectlink 나종주; Rha, Jong-Joo; 박중근; Park, Joong-Keun, 한국과학기술원, 1997 |
| 4 | Arsenic 이온이 주입된 실리콘에서 결함 생성에 관한 투과전자현미경 연구 = A transmission electron microscopy study on the generation of defects in $As^+$ implanted siliconlink 신유균; Shin, Yu-Gyun; 이정용; Lee, Jeong-Yong, 한국과학기술원, 2002 |
| 5 | (A) study on the hydrogen transport through Rf-magnetron sputtered and anodic $WO_3$ films = Rf-Magnetron 스퍼터링 방법과 양극산화법에 의해 제조된 텅스텐 산화물을 통한 수소의 이동에 관한 연구link Kim, Dong-Jin; 김동진; Pyun, Su-Il; 변수일, 한국과학기술원, 1998 |
| 6 | 반도체 배선용 구리 전기도금막의 Self-annealing 기구분석 = Analysis of self-annealing mechanism in electroplated Cu thin film for the interconnect of semiconductor deviceslink 이창희; Lee, Chang-Hee; 박종욱; Park, Chong-Ook, 한국과학기술원, 2003 |
| 7 | (A) Study on the stabilization of low dielectric SiOF thin film deposited by electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition = ECRPECVD 법으로 증착한 저유전율 SiOF 박막의 안정화에 관한 연구link Kim, Suk-Pil; 김석필; Choi, Si-Kyung; 최시경, 한국과학기술원, 2002 |
| 8 | 플라즈마 화학 증착법으로 제조된 실리콘 산화물 박막의 대기중 응력 변화 거동에 관한 연구 = A study on the stress behavior in plasma-enhanced chemical vapor deposited silicon dioxide films exposed to airlink 박영수; Park, Young-Soo; 이재영; Lee, Jai-Young, 한국과학기술원, 2000 |
