スティープスロープ電界効果トランジスタとその動作方法STEEP-SLOPE FIELD-EFFECT TRANSISTOR AND FABRICATION METHOD

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スティープスロープ電界効果トランジスタとその製造方法を提供する。本発明の一実施形態に係るスティープスロープ電界効果トランジスタは、基板上に形成されるソース、チャネル領域、ドレインと、前記チャネル領域の上部に形成されるゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜の上部に形成されるフローティングゲートと、前記フローティングゲートの上部に形成される遷移層と、前記遷移層の上部に形成されるコントロールゲートとを含み、前記スティープスロープ電界効果トランジスタは、前記コントロールゲートに基準電位以上を印加することで前記フローティングゲートに保存された少なくとも1つの電荷を放出または搬入させることができる。
Assignee
KAIST
Country
JA (Japan)
Application Date
2021-07-29
Application Number
2021-555154
Registration Date
2023-09-21
Registration Number
7352984
URI
http://hdl.handle.net/10203/317783
Appears in Collection
EE-Patent(특허)
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