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Development of VHF inductively coupled plasma source and study on the frequency effect of plasma parameters = VHF 유도 결합 플라즈마 원 개발 및 플라즈마 변수들의 주파수 효과에 관한 연구link Jun, Hyun-su; 전현수; et al, 한국과학기술원, 2009 |
펄스 마그테트론 스퍼터링 소스의 플라즈마 특성과 증착율에 대한 연구 = Characteristics of plasma and deposition rate in pulsed-DC magnetron sputtering sourcelink 인정환; In, Jeong-hwan; et al, 한국과학기술원, 2009 |
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