펄스 마그테트론 스퍼터링 소스의 플라즈마 특성과 증착율에 대한 연구Characteristics of plasma and deposition rate in pulsed-DC magnetron sputtering source
- Advisors
- 장홍영researcher; Chang, Hong-youngresearcher
- Description
- 한국과학기술원 : 물리학과,
- Publisher
- 한국과학기술원
- Issue Date
- 2009
- Identifier
- 309038/325007 / 020045225
- Language
- kor
- Description
학위논문(박사) - 한국과학기술원 : 물리학과, 2009. 2, [ v, 115 p. ]
- Keywords
magnetron sputtering; pulsed-DC; ion bombardment energy; deposition rate; two step pulse; 마그네트론 스퍼터링; 직류 펄스; 이온 충돌 에너지; 증착율; 이단 펄스
- Appears in Collection
- PH-Theses_Ph.D.(박사논문)
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