DSpace at KOASAS
Browsing DSpace

Browse "Dept. of Materials Science and Engineering(신소재공학과)" by Type Thesis(Master)

A to Z

All 0-9

A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z

or enter first few letters:

Showing results 2161 to 2180 of 2223

2161
표면 산화층이 서브마이크론 크기 니켈의 소결거동에 미치는 영향 = Effect of passivation on the sintering behavior of submicron nickel powder compactslink

조기영; Jo, Gi-Young; et al, 한국과학기술원, 2013

2162
표면 조건의 측면에서 본 FeTi의 activation = The activation of FeTi in view of surface conditionlink

김해천; Kim, Hae-Cheon; et al, 한국과학기술원, 1984

2163
표면 플라즈몬 공명에 기반한 광전기화학적 물 분해 연구 = Photoelectrochemical water splitting based on surface plasmon resonancelink

최신영; Choi, Shinyoung; et al, 한국과학기술원, 2015

2164
표면장력 및 온도 경사도를 이용한 계면 자가조립 대면적 MoS2 박막 제조 = Interfacial self-assembly of large-area MoS2 thin film by surface tension & temperature Gradientlink

윤태영; Yun, Taeyeong; et al, 한국과학기술원, 2015

2165
표면침탄에 의한 텅스텐 중합금의 표면개질 = Surface modification of tungsten heavy alloys by surface carburizationlink

정석우; Jung, Suk-Woo; et al, 한국과학기술원, 1997

2166
프로판을 사용한 TiC 화학증착에 대한 연구 = Chemical vapor deposition of titanium carbide on WC-6Co sintered carbide using propanelink

백동수; Baik, Dong-Soo; et al, 한국과학기술원, 1983

2167
프로판을 사용한 TiC 화학증착에서 증착조건들이 미치는 영향 = The effects of deposition variables in the chemical vapor deposition of TiC using propanelink

김동갑; Kim, Dong-Gap; et al, 한국과학기술원, 1984

2168
플라즈마 에칭과 플라즈마 밀도 분포가 탄소나노튜브의 전계 방출 특성에 미치는 영향에 대한 연구 = Plasma etching and plasma density distribution effects on electric field emission properties of carbon nanotubeslink

강경태; Kang, Kyong-Tae; et al, 한국과학기술원, 2002

2169
플라즈마 표면처리에 의한 폴리카보네이트(polycarbonate)와 구리(Cu) 박막간의 접착력 강화에 대한 연구 = A study on the enhancing adhesion strength of polycarbonates and Cu films by plasma surface treatmentlink

조병훈; Cho, Byeong-Hoon; et al, 한국과학기술원, 2002

2170
플라즈마 화학 증착법으로 제조된 P-doped μc-Si:H 박막의 특성 = Properties of phosphorus-doped μc-Si:H thin films by PECVDlink

이정노; Lee, Jeong-No; et al, 한국과학기술원, 1993

2171
플라즈마 화학 증착법으로 제조한 P-doped α-Si:H 박막의 고상결정화 = Solid phase crystallization of P-doped α-Si:H films deposited by PECVDlink

이범주; Lee, Bum-Joo; et al, 한국과학기술원, 1995

2172
플라즈마 화학증착된 Aluminum oxide 박막의 $CF_4$와 $CC1_4$ 플라즈마에서의 Reactive ion etching 특성 = The $CF_4/CC1_4$ reactive ion etching properties of aluminum oxide films deposited by PECVDlink

김형석; Kim, Hyung-Suk; et al, 한국과학기술원, 1993

2173
플라즈마 화학증착된 TiN 박막의 분산분석에 의한 증착특성 및 기계적성질에 관한 연구 = A study on the deposition characteristics by analysis of variance and mechanical properties by plasma enhanced chemical vapor depositionlink

인치범; In, Chi-Bum; et al, 한국과학기술원, 1990

2174
플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 $TiO_2$ 박막의 반도체 및 전기화학적 성질에 대한 연구 = A study on the semiconductive and electrochemical properties of the $TiO_2$ films deposited by PECVD methodlink

양태현; Yang, Tae-Hyun; et al, 한국과학기술원, 1992

2175
플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 aluminum oxide 박막의 C-V 특성에 증착 변수가 미치는 영향 = The effect of deposition parameters on C-V characteristics of aluminum oxide thin films deposited by PECVDlink

김용천; Kim, Yong-Chun; et al, 한국과학기술원, 1990

2176
플라즈마 화학증착법에 의하여 증착된 Aluminum oxide 박막의 에칭 특성에 관한 연구 = A study on etching properties of aluminum oxide films deposited by plasma enhanced chemical vapor depositionlink

정진기; Jung, Jin-Ki; et al, 한국과학기술원, 1991

2177
플라즈마 화학증착법에 의한 Ti(C,N)의 증착기구 및 증착층의 특성에 관한 연구 = A study on the deposition mechanism and structural properties of Ti(C,N) deposited by plasma enhanced chemical vapor depositionlink

김상호; Kim, Sang-Ho; et al, 한국과학기술원, 1989

2178
플라즈마 화학증착법에 의해 형성된 $TiO_2$ 박막을 통한 수소투과 거동에 관한 연구 = Hydrogen permeation through the $TiO_2$ film produced by plasma enhanced chemical vapor deposition methodlink

박진우; Park, Jin-Woo; et al, 한국과학기술원, 1993

2179
플라즈마 화학증착법으로 제조한 비정질 실리콘박막의 결정화 거동에 미치는 수소의 영향 = Hydrogen effects on the behavior of crystallization of amorphous silicon films prepared by plasma enhanced chemical vapor depositionlink

김해열; Kim, Hae-Yeol; et al, 한국과학기술원, 1995

2180
플라즈마 화학증착법으로 제조한 수소함유-비정질 탄화규소의 광학적 특성에 관한 연구 = A study on the characteristics of the optical properties of hydrogenated amorphous silicon carbide prepared by PECVDlink

박장호; Park, Jang-Ho; et al, 한국과학기술원, 1990

Discover

rss_1.0 rss_2.0 atom_1.0