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On the uniformity of electric field controlled plasma sources = 전기장으로 제어된 플라즈마 소스의 균일도에 관한 연구link Lee, Yong-Kwan; 이용관; et al, 한국과학기술원, 2003 |
비교란 탐침을 이용한 RF 유도플라즈마에서의 전기장 측정 = Electric field measurement in an inductively coupled plasma by a non-disturbing probelink 이용관; Lee, Yong-Kwan; et al, 한국과학기술원, 1997 |
수정 진동자를 이용한 Inductively Coupled Plasma(ICP)에서의 전기장 측정 Lee, Soon-Chil; 이용관, 응용물리, v.10, no.4, pp.322 - 327, 1997-07 |
수정진동자를 이용한 ICP에서의 전기장 측정 이용관; 이순칠, 1996 한국물리학회 가을학술논문발표회 , pp.346 - 346, 한국물리학회, 1996 |
유도 결합형 플라즈마 발생용 안테나 장치 장홍영; 이용관; 윤남식; 김성식; 이평우, 2002-05-13 |
유도 결합형 플라즈마를 생성하기 위한 안테나 장치 장홍영; 이용관; 윤남식; 김성식; 이평우, 2001-09-11 |
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