Showing results 1 to 2 of 2
On the uniformity of electric field controlled plasma sources = 전기장으로 제어된 플라즈마 소스의 균일도에 관한 연구link Lee, Yong-Kwan; 이용관; et al, 한국과학기술원, 2003 |
비교란 탐침을 이용한 RF 유도플라즈마에서의 전기장 측정 = Electric field measurement in an inductively coupled plasma by a non-disturbing probelink 이용관; Lee, Yong-Kwan; et al, 한국과학기술원, 1997 |
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