학위논문(박사) - 한국과학기술원 : 재료공학과, 1998.8, [ xv, 158 p. ]
ERD-TOF 조성; 무반사층 디자인 시뮬레이터; 플로리네이티드 실리콘 나이트라이드 박막; 하부 무반사층; 극자외선 리소그래피; 산화기구; Oxidation mechanism; ERD-TOF composition; BARL design simulator; Fluorianted silicon nitride thin film; Bottom antireflective layer (BARL); DUV lithography
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