1 | (A) study on the novel heating resistors based on the composite metal-oxides for inkjet printhead = 잉크젯 프린트 헤드를 위한 새로운 금속 산화물 기반의 발열체 특성에 관한 연구link Kwon, Se-hun; 권세훈; Kang, Sang-won; 강상원, 한국과학기술원, 2008 |
2 | (A) study on the ruthenium thin films formed by atomic layer deposition (ALD) = ALD 증착법으로 형성된 ruthenium 박막의 특성에 관한 연구link Kwon, Oh-Kyum; 권오겸; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2004 |
3 | A study on the step coverage modeling of thin films in atomic layer deposition = 원자층 증착법으로 형성된 박막의 단차 피복성 예측을 위한 모델링에 관한 연구link Kim, Ja-Yong; 김자용; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2007 |
4 | Ir 하부전극 위에서 PEALD로 증착 된 TiAlO 박막의 특성에 대한 연구 = A study on TiAlO films deposited by plasma enhanced atomic layer depositionlink 주대권; Joo, Dae-Kwon; 안병태; Ahn, Byung-Tae, 한국과학기술원, 2009 |
5 | (The) microstructure and electrical property of $HfO_2/Al_2O_3$ films deposited by atomic layer deposition = 원자층 증착법으로 형성된 $HfO_2/Al_2O_3$ 박막의 결정 구조 변화 및 전기적 특성에 관한 연구link Park, Pan-Kwi; 박판귀; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2007 |
6 | (A) study on the atomic layer deposition of Ti-Al-N thin films using plasmas = 플라즈마를 이용한 Ti-Al-N 박막의 원자층 증착법에 관한 연구link Lee, Yong-Ju; 이용주; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2003 |
7 | (A) study on the plasma-enhanced atomic layer deposition of Ta-N, Ti-N and Ti-Si-N thin films = Ta-N, Ti-N, Ti-Si-N 확산방지막의 플라즈마를 이용한 원자층 증착법에 관한 연구link Park, Jin-Seong; 박진성; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2002 |
8 | (A) study on plasma-enhanced atomic layer deposition of Ta-Si-O thin films = 탄탈륨 실리콘 산화막의 플라즈마 원자층 증착법에 관한 연구link Song, Hyun-Jung; 송현정; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2003 |
9 | (A) study on the kinetic model the thin film growth in ALD = ALD 박막 성장에 관한 동역학적 model 연구link Lim, Jung-Wook; 임정욱; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2001 |