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(The) microstructure and electrical property of $HfO_2/Al_2O_3$ films deposited by atomic layer deposition = 원자층 증착법으로 형성된 $HfO_2/Al_2O_3$ 박막의 결정 구조 변화 및 전기적 특성에 관한 연구link Park, Pan-Kwi; 박판귀; Kang, Sang-Won; 강상원, 한국과학기술원, 2007 |
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