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1
ECR PECVD법을 이용한 ULSI DRAM Capacitor용 (Pb,La)(Zr,Ti)$O_3$ 박막의 제조 및 특성 평가 연구 = Fabrication and characterization of ECR PECVD (Pb,La)(Zr,Ti)$O_3$ thin films for the charge storage capacitors of ULSI DRAMlink

신중식; Shin, Joong-Shik; 이원종; 천성순; et al, 한국과학기술원, 1997

2
Fe-base 및 Ni-base alloy 위에 증착된 TiN 박막의 증착특성 및 전기화학적 특성 = Deposition characteristics and electrochemical properties of TiN films deposited on Fe-base alloy and Ni-base alloylink

인치범; In, Chi-Bum; et al, 한국과학기술원, 1995

3
Hot-filament 화학증착법에 의한 다이아몬드의 성장에 관한 연구 = A study on the diamond growth by hot-filament chemical vapor depositionlink

권대원; Kweon, Dae-Weon; et al, 한국과학기술원, 1991

4
구리의 화학증착기구에 관한 연구 = A study on the copper chemical vapor deposition mechanism using copper(I) hexafluoroacetylacetonate trimethylvinylsilanelink

이원준; Lee, Won-Jun; et al, 한국과학기술원, 1996

5
산소-아세틸렌 토치 및 DC glow discharge법에 의한 다이아몬드 성장에 관한 연구 = A study on the diamond growth by oxy-acetylene torch and DC glow discharge CVD processlink

이욱성; Lee, Wook-Seong; et al, 한국과학기술원, 1995

6
저압 다이아몬드 합성에서의 Charged cluster 모델 = The charged cluster model for low pressure synthesis of diamondlink

한준희; Hahn, Jun-Hee; et al, 한국과학기술원, 1995

7
화학증착법에 의해 제조된 Blanket 및 selective 텅스텐박막의 물성에 관한 연구 = The study on the properties of blanket and selective tungsten prepered by CVDlink

박영욱; Park, Young-Wook; et al, 한국과학기술원, 1991

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