플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치PLASMA GENERATION APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 진공 용기의 내부에 배치되고 나란히 연장되는 복수의 접지 전극들, 및 접지 전극들 사이에 배치된 전원 전극들을 포함한다. 접지 전극과 전원 전극 사이의 간격이 일정한 영역을 포함하고, 전원 전극은 기판을 마주보는 방향으로 테이퍼지고, 전원 전극들은 RF 전원에 연결된다.
- Assignee
- 한국과학기술원,주성엔지니어링(주)
- Country
- KO (South Korea)
- Application Date
- 2011-03-30
- Application Number
- 10-2011-0028765
- Registration Date
- 2012-08-31
- Registration Number
- 10-1180373-0000
- Appears in Collection
- PH-Patent(특허)
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