플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치PLASMA GENERATION APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 장홍영 | ko |
| dc.contributor.author | 서상훈 | ko |
| dc.contributor.author | 이윤성 | ko |
| dc.date.accessioned | 2022-11-08T07:00:25Z | - |
| dc.date.available | 2022-11-08T07:00:25Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/299373 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 진공 용기의 내부에 배치되고 나란히 연장되는 복수의 접지 전극들, 및 접지 전극들 사이에 배치된 전원 전극들을 포함한다. 접지 전극과 전원 전극 사이의 간격이 일정한 영역을 포함하고, 전원 전극은 기판을 마주보는 방향으로 테이퍼지고, 전원 전극들은 RF 전원에 연결된다. | - |
| dc.title | 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치 | - |
| dc.title.alternative | PLASMA GENERATION APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 장홍영 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 서상훈 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 이윤성 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원,주성엔지니어링(주) | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2011-0028765 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1180373-0000 | - |
| dc.date.application | 2011-03-30 | - |
| dc.date.registration | 2012-08-31 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
- Appears in Collection
- PH-Patent(특허)
- Files in This Item
- There are no files associated with this item.
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.