원자힘 현미경용 캔틸레버 세트, 이를 포함하는 기판 표면 검사 장치, 이를 이용한 반도체 기판의 표면 분석 방법 및 이를 이용한 미세 패턴 형성 방법Cantilever set for atomic force microscope, apparatus for substrate surface inspection comprising the same, method of analyzing a surface of a semiconductor substrate using the same, and method of forming a micropattern using the same

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본 발명은 원자힘 현미경용 캔틸레버 세트, 이를 포함하는 기판 표면 검사 장치, 이를 이용한 반도체 기판의 표면 분석 방법 및 이를 이용한 미세 패턴 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 태양은 반도체 기판으로 형성된 핸들링부; 상기 핸들링부의 일면에 제공된 캔틸레버부; 및 상기 캔틸레버부의 일단에 제공된 프로브 팁을 포함하고, 상기 프로브 팁은 폴리머로 개질된 표면을 적어도 부분적으로 갖는 원자힘 현미경용 캔틸레버 세트를 제공한다. 상기 캔틸레버 세트를 이용하면 기판의 표면을 직접적으로 더욱 정밀하게 분석 및 검사할 수 있다.
Assignee
삼성전자주식회사,한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Application Date
2016-01-26
Application Number
10-2016-0009481
Registration Date
2022-06-07
Registration Number
10-2407818-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/297708
Appears in Collection
MS-Patent(특허)
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