개시제를 이용한 화학 기상 증착의 다층 시스템 및 방법MULTILAYER SYSTEM OF INITIATED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION USING INITIATORS AND THE METHOD THEREOF
본 발명에 따른 개시제를 이용한 화학 기상 증착(Initiated Chemical Vapor Deposition, iCVD)의 다층 시스템은 내부에 기판을 수용할 수 있는 복수의 챔버; 상기 복수의 챔버 각각에 단량체를 주입하는 복수의 단량체 주입부; 상기 복수의 챔버 각각에 개시제를 주입하는 복수의 개시제 주입부; 상기 단량체 및 상기 개시제를 이용하여 상기 기판에 박막을 형성하기 위해 상기 복수 개의 챔버 각각의 온도를 조절하는 복수의 온도 조절부를 포함할 수 있다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Application Date
- 2018-02-07
- Application Number
- 10-2018-0015112
- Registration Date
- 2020-10-23
- Registration Number
- 10-2171476-0000
- Appears in Collection
- CBE-Patent(특허)
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