박막 코팅 방법 및 그에 따라 제조된 전자 소자METHOD OF COATING THIN FILM AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD

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본 발명은 박막 코팅 방법 및 그에 따라 제조된 전자 소자에 관한 것으로, 보다 상세하게는 회전 방식을 이용한 박막 코팅 방법과 이를 통해 제조된 전자 소자에 관한 것이다.본 발명의 실시 형태에 따른 박막 코팅 방법은, 희생층 상에 도전성 박막을 형성하는, 박막 형성 단계; 상기 희생층과 상기 도전성 박막을 부식액이 포함된 액체에 띄워 상기 희생층을 제거하는, 플로팅 단계; 상기 액체에 포함된 상기 부식액을 제거하는, 제거 단계; 및 기판을 회전시켜 상기 도전성 박막을 상기 기판에 코팅하는, 코팅 단계;를 포함하고, 상기 기판은 원통형 또는 튜브형이고, 상기 코팅 단계는, 상기 기판의 회전축과 상기 도전성 박막의 길이 방향 사이의 각도가 예각이 되도록 상기 기판을 상기 도전성 박막에 접촉시킨 상태로 상기 기판을 회전시켜 나선형의 박막 패턴을 형성한다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Application Date
2018-01-25
Application Number
10-2018-0009127
Registration Date
2020-04-14
Registration Number
10-2102851-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/274396
Appears in Collection
ME-Patent(특허)
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