결점 용융을 이용한 자기조립 나노 패턴 형성 방법Formation method of self-assembled nano-pattern using defect melting
본 발명은 a) 블록공중합체와 결점 용융제를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계; b) 상기 혼합물을 기판 상에 도포하여 박막을 형성하는 단계; 및 c) 상기 박막을 어닐링하여 자기조립하는 단계;를 포함하는 결점 용융을 이용한 자기조립 나노 패턴 형성방법으로 상기 결점은 χN이 10.5 이하인 결점 용융을 이용한 자기조립 나노 패턴 형성방법에 관한 것이다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2018-01-19
- Application Date
- 2015-11-10
- Application Number
- 10-2015-0157104
- Registration Date
- 2018-01-19
- Registration Number
- 10-1821969-0000
- Appears in Collection
- MS-Patent(특허)
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