4-빔 레이저 간섭 응용 금속 나노 점 패턴 및 SERS 기판 제조 방법(Method of Fabricating Nano Dot Pattern and SERS Plate using 4-Beam Laser Interference Lithography)Fabrication of Ag Nano Pattern and SERS Substrate by 4-beam Laser Interference System
나노 패턴 제조 방법을 개시한다.본 실시예에 의하면, 나노 패턴 제조 방법에 있어서, 기판 상에 유기금속화합물 잉크층을 형성하는 과정; 상기 유기금속화합물 잉크층을 반고상으로 경화시키는 과정; 상기 반고상의 유기금속화합물 잉크층에 4-빔 간섭 리소그래피를 이용하여 상기 기판 상에 수직으로 교차하는 레이저를 조사하여 패턴이 형성될 부분을 국부적으로 경화시켜 패턴을 형성하는 과정; 및 상기 반고상의 유기금속화합물 잉크층을 제거하여 상기 패턴을 남기는 과정을 포함하는 나노 패턴 제조 방법을 제공한다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2018-02-27
- Application Date
- 2016-09-12
- Application Number
- 10-2016-0117001
- Registration Date
- 2018-02-27
- Registration Number
- 10-1834917-0000
- Appears in Collection
- ME-Patent(특허)
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