4-빔 레이저 간섭 응용 금속 나노 점 패턴 및 SERS 기판 제조 방법(Method of Fabricating Nano Dot Pattern and SERS Plate using 4-Beam Laser Interference Lithography)Fabrication of Ag Nano Pattern and SERS Substrate by 4-beam Laser Interference System

Cited 0 time in webofscience Cited 0 time in scopus
  • Hit : 337
  • Download : 0
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.author양민양ko
dc.contributor.author한규효ko
dc.date.accessioned2019-04-15T17:36:06Z-
dc.date.available2019-04-15T17:36:06Z-
dc.date.issued2018-02-27-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10203/256740-
dc.description.abstract나노 패턴 제조 방법을 개시한다.본 실시예에 의하면, 나노 패턴 제조 방법에 있어서, 기판 상에 유기금속화합물 잉크층을 형성하는 과정; 상기 유기금속화합물 잉크층을 반고상으로 경화시키는 과정; 상기 반고상의 유기금속화합물 잉크층에 4-빔 간섭 리소그래피를 이용하여 상기 기판 상에 수직으로 교차하는 레이저를 조사하여 패턴이 형성될 부분을 국부적으로 경화시켜 패턴을 형성하는 과정; 및 상기 반고상의 유기금속화합물 잉크층을 제거하여 상기 패턴을 남기는 과정을 포함하는 나노 패턴 제조 방법을 제공한다.-
dc.title4-빔 레이저 간섭 응용 금속 나노 점 패턴 및 SERS 기판 제조 방법(Method of Fabricating Nano Dot Pattern and SERS Plate using 4-Beam Laser Interference Lithography)-
dc.title.alternativeFabrication of Ag Nano Pattern and SERS Substrate by 4-beam Laser Interference System-
dc.typePatent-
dc.type.rimsPAT-
dc.contributor.localauthor양민양-
dc.contributor.nonIdAuthor한규효-
dc.contributor.assignee한국과학기술원-
dc.identifier.iprsType특허-
dc.identifier.patentApplicationNumber10-2016-0117001-
dc.identifier.patentRegistrationNumber10-1834917-0000-
dc.date.application2016-09-12-
dc.date.registration2018-02-27-
dc.publisher.countryKO-
Appears in Collection
ME-Patent(특허)
Files in This Item
There are no files associated with this item.

qr_code

  • mendeley

    citeulike


rss_1.0 rss_2.0 atom_1.0