4-빔 레이저 간섭 응용 금속 나노 점 패턴 및 SERS 기판 제조 방법(Method of Fabricating Nano Dot Pattern and SERS Plate using 4-Beam Laser Interference Lithography)Fabrication of Ag Nano Pattern and SERS Substrate by 4-beam Laser Interference System
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 양민양 | ko |
| dc.contributor.author | 한규효 | ko |
| dc.date.accessioned | 2019-04-15T17:36:06Z | - |
| dc.date.available | 2019-04-15T17:36:06Z | - |
| dc.date.issued | 2018-02-27 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/256740 | - |
| dc.description.abstract | 나노 패턴 제조 방법을 개시한다.본 실시예에 의하면, 나노 패턴 제조 방법에 있어서, 기판 상에 유기금속화합물 잉크층을 형성하는 과정; 상기 유기금속화합물 잉크층을 반고상으로 경화시키는 과정; 상기 반고상의 유기금속화합물 잉크층에 4-빔 간섭 리소그래피를 이용하여 상기 기판 상에 수직으로 교차하는 레이저를 조사하여 패턴이 형성될 부분을 국부적으로 경화시켜 패턴을 형성하는 과정; 및 상기 반고상의 유기금속화합물 잉크층을 제거하여 상기 패턴을 남기는 과정을 포함하는 나노 패턴 제조 방법을 제공한다. | - |
| dc.title | 4-빔 레이저 간섭 응용 금속 나노 점 패턴 및 SERS 기판 제조 방법(Method of Fabricating Nano Dot Pattern and SERS Plate using 4-Beam Laser Interference Lithography) | - |
| dc.title.alternative | Fabrication of Ag Nano Pattern and SERS Substrate by 4-beam Laser Interference System | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 양민양 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 한규효 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2016-0117001 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1834917-0000 | - |
| dc.date.application | 2016-09-12 | - |
| dc.date.registration | 2018-02-27 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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