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Development of VHF inductively coupled plasma source and study on the frequency effect of plasma parameters = VHF 유도 결합 플라즈마 원 개발 및 플라즈마 변수들의 주파수 효과에 관한 연구link Jun, Hyun-su; 전현수; et al, 한국과학기술원, 2009 |
그리드전압을 이용한 전자온도제어 및 $CF_4/Ar$ 플라즈마에의 응용에 관한 연구 = Study on controlling electron temperature with grid bias and Its application to $CF_4/Ar$ plasmalink 홍정인; Hong, Jung-In; et al, 한국과학기술원, 1999 |
플라즈마층에서의 전자측정에 관한 연구 = A study of electron measurement in the plasmaspherelink 최영완; Choi, Young-Wan; et al, 한국과학기술원, 1999 |
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