나노 트랜스퍼 몰딩 및 마스터 기판을 이용한리소그래피의 방법과 나노 트랜스퍼 몰드 제조 방법

Abstract

본 발명은 리소그래피 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 마이크로미터에서 나노미터 수준의 패턴까지 형성할 수 있는 나노 트랜스퍼 몰드 또는 마스터 기판을 이용하여 패턴을 전이하는 리소그래피 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 리소그래피 방법은, (a) 나노미터 수준의 패턴이 형성되어 있는 나노 몰드 위에 마스크층을 스핀 코팅하여 마스크층의 표면을 균일하게 하는 단계; (b) 상기 (a)단계를 통해 마스크층이 균일하게 도포된 나노 몰드를 박막이 증착되어 있는 기판 위에 붙이는 단계; (c) 상기 나노 몰드를 제거하고 상기 기판 위의 박막이 나타날 때까지 마스크층을 식각하는 단계; 및 (d) 상기 (c)단계를 통해 식각되지 않은 마스크층 패턴을 마스크로 하여 박막을 식각하고 상기 마스크층 패턴을 제거하는 단계;를 포함하여 이루어진다.