원-포트 공정을 이용한 고체 기판 표면의 개질방법A Method for Modifying a Solid Substrate Surface Using One-Pot Process

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본 발명은 원-포트 공정(one-pot)을 이용한 고체 기판 표면의 개질방법을 제공한다. 본 발명에 따른 고체 기판 표면의 개질방법은 도파민(dopamine)과 같은 접착물질과 기능성 타겟물질을 원-포트 공정으로 고체 기판 표면에 도입한다. 이 후, 기능화된 표면은 그대로 사용하거나, 또 다른 기능성 물질 도입을 위한 중간체 표면으로 사용이 가능하다. 본 발명에 의한 고체 기판 표면의 개질방법에 따르면, 다양한 종류의 고체 기판에 여러 가지 기능성을 도입하는 것이 가능하여 의료, 제약, 반도체 및 촉매와 같은 매우 다양한 분야에 적용이 가능할 뿐만 아니라, 기능성 도입을 위한 고체 기판의 코팅이 원-포트 공정에 의하여 수행되어 매우 단순한 공정으로 고체 기판의 표면을 개질할 수 있는 장점이 있다.
Assignee
한국과학기술원
Country
KO (South Korea)
Issue Date
2012-01-04
Application Date
2009-10-28
Application Number
10-2009-0102742
Registration Date
2012-01-04
Registration Number
10-1104775-0000
URI
http://hdl.handle.net/10203/235404
Appears in Collection
CH-Patent(특허)
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