DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | 이해신 | ko |
dc.contributor.author | 강성민 | ko |
dc.contributor.author | 필립 비. 메서스미스 | ko |
dc.date.accessioned | 2017-12-20T12:07:33Z | - |
dc.date.available | 2017-12-20T12:07:33Z | - |
dc.date.issued | 2012-01-04 | - |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/235404 | - |
dc.description.abstract | 본 발명은 원-포트 공정(one-pot)을 이용한 고체 기판 표면의 개질방법을 제공한다. 본 발명에 따른 고체 기판 표면의 개질방법은 도파민(dopamine)과 같은 접착물질과 기능성 타겟물질을 원-포트 공정으로 고체 기판 표면에 도입한다. 이 후, 기능화된 표면은 그대로 사용하거나, 또 다른 기능성 물질 도입을 위한 중간체 표면으로 사용이 가능하다. 본 발명에 의한 고체 기판 표면의 개질방법에 따르면, 다양한 종류의 고체 기판에 여러 가지 기능성을 도입하는 것이 가능하여 의료, 제약, 반도체 및 촉매와 같은 매우 다양한 분야에 적용이 가능할 뿐만 아니라, 기능성 도입을 위한 고체 기판의 코팅이 원-포트 공정에 의하여 수행되어 매우 단순한 공정으로 고체 기판의 표면을 개질할 수 있는 장점이 있다. | - |
dc.title | 원-포트 공정을 이용한 고체 기판 표면의 개질방법 | - |
dc.title.alternative | A Method for Modifying a Solid Substrate Surface Using One-Pot Process | - |
dc.type | Patent | - |
dc.type.rims | PAT | - |
dc.contributor.localauthor | 이해신 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 강성민 | - |
dc.contributor.nonIdAuthor | 필립 비. 메서스미스 | - |
dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2009-0102742 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1104775-0000 | - |
dc.date.application | 2009-10-28 | - |
dc.date.registration | 2012-01-04 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.