백나노미터 이하의 고정밀 나노 미세패턴 및 자성 금속 점정렬 형성방법Fabrication Method of High Resolution Nanopatterns andMetal Dot Arrays with Sub-100nm Feature Size
본 발명은 패턴화를 요하는 금속박막 위에 규칙적인 다공성 고분자 패턴을 형성하는 단계; 마스크용 금속을 상기 형성된 홀에 선택적으로 증착하는 단계; 선택적으로 고분자층을 제거하는 단계; 및 상기 패턴화를 요하는 금속박막을 식각하는 단계를 포함하는 금속점 정렬의 형성방법을 제공한다. 상기 구성에 의하면, 종래 광식각 공정으로는 구현하기 힘든 백나노미터 이하의 미세패턴화가 가능하고, 간단한 공정에 의해 다양한 크기와 모양의 금속패턴을 형성할 수 있다. 또한 미리 원하는 성질의 자성 금속을 증착하므로 자성금속의 선택이 자유롭고, 사용되는 마스크 금속의 성질에 따라 종횡비가 큰 금속패턴을 형성하는 것이 가능하다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2005-11-02
- Application Date
- 2003-04-21
- Application Number
- 10-2003-0025194
- Registration Date
- 2005-11-02
- Registration Number
- 10-0527409-0000
- Appears in Collection
- CBE-Patent(특허)RIMS Patents
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