순환유동층 반응기에서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한미세입자의 타이타니아 박막 제조방법(Manufacturing method for TiO2 film on fine particles byusing plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD)in a circulating fluidized bed(CFB) reactor)Manufacturing method for TiO2 film on fine particles byusing plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD)in a circulating fluidized bed(CFB) reactor
본 발명은 순환유동층 반응기에서 미세입자를 순환시키면서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한 타이타니아 박막의 제조 방법 및 타이타니아 증착 장치에 관한 것이다. 이에 따라, 후열처리 없이 대기압 플라즈마 증착만으로 광 활성이 우수한 타이타니아의 아나타아제 결정상을 제조할 수 있고, 입자 표면에 균일할 박막을 형성하며, 공정 제어가 간편한 타이타니아 증착 장치를 제공할 수 있다.
- Assignee
- 한국과학기술원
- Country
- KO (South Korea)
- Issue Date
- 2007-10-26
- Application Date
- 2006-05-24
- Application Number
- 10-2006-0046512
- Registration Date
- 2007-10-26
- Registration Number
- 10-0772493-0000
- Appears in Collection
- CBE-Patent(특허)
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