순환유동층 반응기에서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한미세입자의 타이타니아 박막 제조방법(Manufacturing method for TiO2 film on fine particles byusing plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD)in a circulating fluidized bed(CFB) reactor)Manufacturing method for TiO2 film on fine particles byusing plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD)in a circulating fluidized bed(CFB) reactor
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김상돈 | ko |
| dc.contributor.author | 김국희 | ko |
| dc.contributor.author | 박성희 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T11:52:29Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T11:52:29Z | - |
| dc.date.issued | 2007-10-26 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/234899 | - |
| dc.description.abstract | 본 발명은 순환유동층 반응기에서 미세입자를 순환시키면서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한 타이타니아 박막의 제조 방법 및 타이타니아 증착 장치에 관한 것이다. 이에 따라, 후열처리 없이 대기압 플라즈마 증착만으로 광 활성이 우수한 타이타니아의 아나타아제 결정상을 제조할 수 있고, 입자 표면에 균일할 박막을 형성하며, 공정 제어가 간편한 타이타니아 증착 장치를 제공할 수 있다. | - |
| dc.title | 순환유동층 반응기에서 대기압 플라즈마 화학증착을 이용한미세입자의 타이타니아 박막 제조방법(Manufacturing method for TiO2 film on fine particles byusing plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD)in a circulating fluidized bed(CFB) reactor) | - |
| dc.title.alternative | Manufacturing method for TiO2 film on fine particles byusing plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD)in a circulating fluidized bed(CFB) reactor | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 김상돈 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김국희 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 박성희 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2006-0046512 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-0772493-0000 | - |
| dc.date.application | 2006-05-24 | - |
| dc.date.registration | 2007-10-26 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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