펄스 레이저의 분산 조절을 이용한 레이저 가공장치 및 가공방법Laser processing apparatus and method using dispersion control of pulse laser
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김승우 | ko |
| dc.contributor.author | 김영진 | ko |
| dc.contributor.author | 김윤석 | ko |
| dc.contributor.author | 김승만 | ko |
| dc.contributor.author | 유준호 | ko |
| dc.contributor.author | 한승회 | ko |
| dc.contributor.author | 박상욱 | ko |
| dc.date.accessioned | 2017-12-20T11:27:35Z | - |
| dc.date.available | 2017-12-20T11:27:35Z | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/234066 | - |
| dc.description.abstract | 펄스 레이저의 분산을 조절하는 단계, 및 상기 분산이 조절된 펄스 레이저를 가공물에 입사시켜 상기 가공물을 가공하는 단계를 포함하는 레이저 가공방법이 공개된다. 상기 분산은, 상기 가공물 내에서 상기 펄스 레이저의 펄스 폭이 상기 가공물 중 상기 펄스 레이저의 입사 지점을 지난 미리 결정된 지점에서 최소가 되도록 조절된다. | - |
| dc.title | 펄스 레이저의 분산 조절을 이용한 레이저 가공장치 및 가공방법 | - |
| dc.title.alternative | Laser processing apparatus and method using dispersion control of pulse laser | - |
| dc.type | Patent | - |
| dc.type.rims | PAT | - |
| dc.contributor.localauthor | 김승우 | - |
| dc.contributor.assignee | 한국과학기술원 | - |
| dc.identifier.iprsType | 특허 | - |
| dc.identifier.patentApplicationNumber | 10-2010-0100806 | - |
| dc.identifier.patentRegistrationNumber | 10-1259580-0000 | - |
| dc.date.application | 2010-10-15 | - |
| dc.date.registration | 2013-04-24 | - |
| dc.publisher.country | KO | - |
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