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Hot-Wire CVD 방법을 이용한 (100) Si과 다결정 Si 씨앗층에서의 저온 에피택셜 Si 성장에 관한 연구 = low-temperature growth of epitaxial Si on (100) Si and poly-Si seed layer using hot-wire CVDlink 이승렬; Lee, Seung-Ryul; et al, 한국과학기술원, 2008 |
반응성 스퍼터링법으로 증착된 CoNx 중간층을 이용한 (100)Si 기판 위에서의 에피택셜 CoSi2 성장 연구 이승렬; 안병태; 김선일, 한국재료학회지, v.16, no.1, pp.30 - 36, 2006-01 |
반응성 스퍼터링법으로 증착된 코발트 나이트라이드(Co-N) 박막을 이용한 (100) Si 기판에서의 $CoSi_{2}$ 에피층 형성에 관한 연구 = Formation of epitaxial $CoSi_{2}$ layer on (100) Si substrate using cobalt nitride(Co-N) film deposited by reactive sputteringlink 이승렬; Lee, Seung-Ryul; et al, 한국과학기술원, 2004 |
실리콘 에피택시 층을 적용한 고품질의 다결정 실리콘박막의 제조방법 및 다결정 실리콘 박막을 포함하는전자소자 안병태; 이승렬, 2007-12-11 |
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