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Browse "Dept. of Materials Science and Engineering(신소재공학과)" by Subject 플라즈마 원자층 증착법

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1
(A) study on high mobility indium oxide thin films and thin-film transistors by means of plasma-enhanced atomic layer deposition = 플라즈마 원자층 증착법을 이용한 고이동도 인듐 산화물 박막 및 트랜지스터 특성 연구link

Yeom, Hye-In; 염혜인; et al, 한국과학기술원, 2016

2
(A) study on plasma-enhanced atomic layer deposition of Ta-Si-O thin films = 탄탈륨 실리콘 산화막의 플라즈마 원자층 증착법에 관한 연구link

Song, Hyun-Jung; 송현정; et al, 한국과학기술원, 2003

3
(A) study on the $HfO_2/Al_2O_3$ nanolaminated thin film by plasma-enhanced atomic layer deposition = PEALD 법으로 증착된 $HfO_2/Al_2O_3$ 박막 증착 및 특성에 관한 연구link

Cha, Eun-Soo; 차은수; et al, 한국과학기술원, 2005

4
(A) study on the active and gate insulator processed by plasma-enhanced atomic layer deposition in oxide thin-film transistors for the High resolution display = 고해상도 디스플레이용 산화물 박막트랜지스터를 위한 플라즈마 원자층 증착법의 활성층과 절연층에 대한 연구link

Ko, Jong Beom; 고종범; et al, 한국과학기술원, 2016

5
(A) study on the effect of aluminum on an indium-aluminum oxide semiconductors deposited by PEALD to control the electrical and structural characteristics = 전기적 및 구조적 특성 조정을 위한, 원자층 증착법으로 증착된 인듐-알루미늄 산화물 반도체에 함유되는 알루미늄의 역할에 대한 연구link

Mun, Geumbi; 문금비; et al, 한국과학기술원, 2016

6
(A) study on the plasma-enhanced atomic layer deposition of $SrTiO_3$ thin films = PEALD 법으로 증착된 $SrTiO_3$ 박막 증착 및 특성에 관한 연구link

Kim, Ja-Yong; 김자용; et al, 한국과학기술원, 2003

7
(A) study on the plasma-enhanced atomic layer deposition of Ta-N, Ti-N and Ti-Si-N thin films = Ta-N, Ti-N, Ti-Si-N 확산방지막의 플라즈마를 이용한 원자층 증착법에 관한 연구link

Park, Jin-Seong; 박진성; et al, 한국과학기술원, 2002

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