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Deep UV and electron beam resists based on maleimide polymers = 말레이미드 고분자를 기본으로 한 원자외선 및 전자선 레지스트 연구link Kim, Sang-Tae; 김상태; et al, 한국과학기술원, 1997 |
Synthesis of copolymers containing hydroxycyclohexyl methacrylate and their application as DUV resist = 히드록시시클로헥실 메타크릴레이트가 포함된 공중합체의 합성 및 원자외선 레지스트로서의 응용link Kim, Jae-Young; 김재영; et al, 한국과학기술원, 1998 |
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