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WF6의 수소환원법에 의해 화학증착된 텅스텐 증착층의 증착기구 및 특성에 관한 연구 = A study on the deposition mechanism and characteristics of tungsten chemical vapor deposition using the hydrogen reduction ofWF6link 윤수식; Yoon, Soo-Sik; et al, 한국과학기술원, 1989 |
금속 유기 화학 증착법에 의해 증착된 구리 박막의 증착 및 물성에 관한 연구 = A study on the deposition and the film characteristics of MOCVD copper thin filmslink 윤수식; Yoon, Soo-Sik; et al, 한국과학기술원, 1996 |
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