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광리소그래피 위상변위마스크용 Cr-Al-O-N 박막의 개발 = Development of chromium aluminum oxynitride films as a phase shifting mask material for optical lithographylink 김은아; Kim, Eun-Ah; et al, 한국과학기술원, 2001 |
메쉬 삽입이 박막 질에 미치는 영향 노광수; 김은아; 김대원; 최종완; 홍승범, 한국요업학회 추계학술발표회, 한국요업학회, 1997-01-01 |
박막의 결정성과 양자역학적인 상수간의 관계에 대한 연구 노광수; 홍승범; 배병수; 고영범; Jiang, ZT; 우상균; 임성출; et al, 한국재료학회 춘계학술발표대회, 한국재료학회, 1996-01-01 |
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