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Multi-alicyclic polymers for application in 193 nm lithography = 다지환족 고분자의 합성과 193 nm 리소그라피용 레지스트로서의 응용link Lee, Jai-Hyoung; 이재형; et al, 한국과학기술원, 2001 |
Synthesis of copolymers containing hydroxycyclohexyl methacrylate and their application as DUV resist = 히드록시시클로헥실 메타크릴레이트가 포함된 공중합체의 합성 및 원자외선 레지스트로서의 응용link Kim, Jae-Young; 김재영; et al, 한국과학기술원, 1998 |
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