연마된 실리콘 웨이퍼의 표면형상 측정을 위한 진동 둔감 광 간섭계Vibration desensitized interferometer for profile measurement of polished silicon wafer
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 권택민 | - |
| dc.contributor.author | 김승우 | - |
| dc.contributor.author | 김학용 | - |
| dc.contributor.author | 이은상 | - |
| dc.contributor.author | 이상열 | - |
| dc.date.accessioned | 2013-03-27T09:08:11Z | - |
| dc.date.available | 2013-03-27T09:08:11Z | - |
| dc.date.created | 2012-03-21 | - |
| dc.date.issued | 2007-06 | - |
| dc.identifier.citation | 한국정밀공학회 2007년도 춘계학술대회 , v., no., pp.755 - 756 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/161120 | - |
| dc.language | KOR | - |
| dc.publisher | 한국정밀공학회 | - |
| dc.title | 연마된 실리콘 웨이퍼의 표면형상 측정을 위한 진동 둔감 광 간섭계 | - |
| dc.title.alternative | Vibration desensitized interferometer for profile measurement of polished silicon wafer | - |
| dc.type | Conference | - |
| dc.type.rims | CONF | - |
| dc.citation.beginningpage | 755 | - |
| dc.citation.endingpage | 756 | - |
| dc.citation.publicationname | 한국정밀공학회 2007년도 춘계학술대회 | - |
| dc.identifier.conferencecountry | South Korea | - |
| dc.identifier.conferencecountry | South Korea | - |
| dc.contributor.localauthor | 김승우 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 권택민 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김학용 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 이은상 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 이상열 | - |
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