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1
(A) study on the $HfO_2/Al_2O_3$ nanolaminated thin film by plasma-enhanced atomic layer deposition = PEALD 법으로 증착된 $HfO_2/Al_2O_3$ 박막 증착 및 특성에 관한 연구link

Cha, Eun-Soo; 차은수; et al, 한국과학기술원, 2005

2
Controlled deposition and alignment of single-walled carbon nanotubes on solid substrates by self-assembly = 단일벽 탄소나노튜브의 고체 기판 상에서의 자기조립을 이용한 고정화 및 배향에 관한 연구link

Choi, Do-Hwan; 최도환; et al, 한국과학기술원, 2005

3
Cycle-CVD법을 이용한 tantalum oxide 원자층 단위 증착 및 특성에 관한 연구 = A study on atomic layer deposition and film characteristics of tantalum oxide using cycle-CVDlink

송현정; Song, Hyun-Jung; et al, 한국과학기술원, 1998

4
DC reactive sputtering법을 이용한 $RuO_x$ 하부전극 형성과 고유전 $(Ba,Sr)TiO_3$ 박막의 특성 평가에 관한 연구 = Preparation of $RuO_x$ bottom electrode by DC reactive sputtering and characterization of $(Ba,Sr)TiO_3$ thin filmslink

안준형; Ahn, Joon-Hyung; et al, 한국과학기술원, 1998

5
HLS-dv: High-level synthesis of dual-$V_{dd}$ architectures = 이중 전압을 이용한 아키텍처의 상위 수준 합성link

Shin, In-Sup; 신인섭; et al, 한국과학기술원, 2009

6
Lookup table-based adaptive body biasing of multiple macros = 룩업 테이블을 이용한 다중 매크로 블록의 어댑티브 바디 바이어싱link

Choi, Byung-hee; 최병희; et al, 한국과학기술원, 2008

7
Minimizing leakage of sequential circuits through flip-flop skewing and technology mapping = 플립플랍 비대칭화와 테크놀로지 매핑을 통한 순차회로의 누설전류 감소link

Heo, Se-Wan; 허세완; et al, 한국과학기술원, 2007

8
Minimizing leakage power in sequential circuits by using mixed $V_t$ Flip-Flops = 혼합 문턱전압 플립플랍을 이용한 순차 회로의 누설 전류 감소 기법link

Kim, Jae-Hyun; 김재현; et al, 한국과학기술원, 2008

9
고유전 (Ba,Sr)$TiO_3$ 박막 커패시터의 유전완화전류와 누설전류에 관한 연구 = A study on dielectric relaxation current and leakage current of high dielectric (Ba,Sr)$TiO_3$ thin film capacitorlink

장훈; Jang, Hoon; et al, 한국과학기술원, 1999

10
소수운반자 수명 측정을 이용한 HgCdTe 표면특성분석 = Surface property analysis of HgCdTe by lifetime meausrementlink

이민영; Lee, Min-Yung; et al, 한국과학기술원, 2002

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