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(A) study on the two-step atomic layer deposition for TaN thin films = Two-step ALD 법을 이용한 TaN 박막 형성에 관한 연구link Kwon, Jung-Dae; 권정대; et al, 한국과학기술원, 2007 |
그래핀 기반의 구리 확산 방지막과 iCVD 고분자를 이용한 도핑 = Graphene based Cu diffusion barrier and feasibility of a novel doping techniquelink 김재환; 조병진; et al, 한국과학기술원, 2017 |
습식 화학물 처리에 의한 그래핀의 도핑 제어와 그래핀의 구리 확산 방지막으로의 응용 = Doping control of graphene by wet chemical treatments and application of graphene to cu diffusion barrierlink 봉재훈; Bong, Jae-Hoon; et al, 한국과학기술원, 2014 |
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