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| 광리소그래피 위상변위마스크용 Cr-Al-O-N 박막의 개발 = Development of chromium aluminum oxynitride films as a phase shifting mask material for optical lithographylink 김은아; Kim, Eun-Ah; et al, 한국과학기술원, 2001 |
| 다공성 그래핀 필름의 슈퍼캐패시터 전극용 전기화학적 특성 홍원희; 최봉길; 허윤석, Korean Chemical Engineering Research(HWAHAK KONGHAK), v.50, no.4, pp.754 - 757, 2012-08 |
| 전자 빔 조사 민감 물질의 전자회절분석을 위한 Imaging Plate 기술 김영민; 김양수; 김진규; 이정용; 김윤중, 한국현미경학회지, v.38, no.3, pp.185 - 193, 2008-09 |
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