거친 표면 형상측정을 위한 점광원 절대간섭계의 오차해석과 시스템 변수의 보정Multiple-Point-Diffraction Interferometer: Error Analysis and Calibration
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 김병창 | ko |
| dc.contributor.author | 김승우 | ko |
| dc.date.accessioned | 2013-03-08T06:54:12Z | - |
| dc.date.available | 2013-03-08T06:54:12Z | - |
| dc.date.created | 2012-02-06 | - |
| dc.date.created | 2012-02-06 | - |
| dc.date.issued | 2005-08 | - |
| dc.identifier.citation | 한국광학회지, v.16, no.4, pp.361 - 365 | - |
| dc.identifier.issn | 1225-6285 | - |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10203/92400 | - |
| dc.description.abstract | 표면거칠기가 큰 가공면의 표면형상을 비접촉 고속 측정 하기 위해 고안된 점광원 절대간섭계는 점광원의 위치가 시스템 변수로 정의된다. 시스템 오차인 점광원의 위치 오차가 측정 결과에 미치는 영향을 분석하며, 이를 보정하기 위해 CCD 카메라를 이용한 보정법을 제안한다. 제안된 방법을 검증하기 위해 기준면을 측정하여 측정 정밀도의 향상을 확인하며, 이를 거친 표면형상의 특징을 가진 칩모듈 측정에 적용하였다. 측정 결과 기존의 촉침식 측정기와 50 mm x 50 mm의 영역에서 9.8 ㎛의 측정 차이를 보임을 확인하였다. | - |
| dc.language | Korean | - |
| dc.publisher | 한국광학회 | - |
| dc.title | 거친 표면 형상측정을 위한 점광원 절대간섭계의 오차해석과 시스템 변수의 보정 | - |
| dc.title.alternative | Multiple-Point-Diffraction Interferometer: Error Analysis and Calibration | - |
| dc.type | Article | - |
| dc.type.rims | ART | - |
| dc.citation.volume | 16 | - |
| dc.citation.issue | 4 | - |
| dc.citation.beginningpage | 361 | - |
| dc.citation.endingpage | 365 | - |
| dc.citation.publicationname | 한국광학회지 | - |
| dc.identifier.kciid | ART001122801 | - |
| dc.contributor.localauthor | 김승우 | - |
| dc.contributor.nonIdAuthor | 김병창 | - |
| dc.subject.keywordAuthor | Point light source | - |
| dc.subject.keywordAuthor | Absolute Interferometer | - |
| dc.subject.keywordAuthor | Rough surface profile | - |
| dc.subject.keywordAuthor | Profilometry | - |
| dc.subject.keywordAuthor | Calibration. | - |
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