무전해 Ni(P)과 무연솔더와의 반응 중 금속간화합물의 spalling 현상에 관한 연구Spalling of Intermetallic Compound during the Reaction between Electroless Ni(P) and Lead-free Solders

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무전해 Ni(P)는 솔더링 특성과 부식저항성이 우수하고 표면 거칠기가 적으며 원하는 금속 상에 선택적으로 도금이 가능하여 전자패키지에서 반도체칩과 기판의 표면 금속층으로 폭 넓게 사용되고 있다. 그러나 솔더와의 반응 중 금속간 화합물의 spalling과 솔더 조인트에서의 취성파괴 문제가 성공적인 적용의 걸림돌이 되어 왔다. 본 연구에서는 각각 조성이 다른 세가지 Ni(P)막 (4.6, 9, and 13 wt.% P)을 사용하여 솔더와의 반응시 무전해 Ni(P)막의 미세구조 및 상 변화와 금속간화합물의 spalling 거동을 면밀히 조사하였다. Ni3Sn4 화합물 아래로 침투한 Sn과 P-rich layer (Ni3P)와의 반응에 의해 Ni3SnP 층이 형성되며 Ni3SnP 층이 성장함에 따라 Ni3Sn4가 spalling됨이 관찰되었다. Spalling 후에는 Ni(P)막이 용융된 솔더와 직접 접촉하게 되어 Ni(P)막의 결정화가 가속화되고 Ni3P 상이 Ni2P 상으로 변태되었다. 또한 이러한 결정화 과정 중 Ni(P)막의 부피가 감소됨에 따라서 인장응력이 발생하여 막 내부에 크랙이 발생하였다.
Publisher
한국마이크로전자및패키징학회
Issue Date
2004-09
Language
Korean
Citation

마이크로전자 및 패키징학회지, v.11, no.3, pp.37 - 45

ISSN
1226-9360
URI
http://hdl.handle.net/10203/85492
Appears in Collection
MS-Journal Papers(저널논문)
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